[发明专利]一种高强度、抗菌和自修复的氮化硼层层自组装复合薄膜的制备方法

摘要

一种高强度、抗菌和自修复的氮化硼层层自组装复合薄膜的制备方法，本发明涉及自组装复合薄膜的制备方法。本发明要解决现有自修复材料的机械强度比较弱，免疫能力低，以至于在使用的过程中很容易遭到破坏的问题。方法：一、氮化硼的分散；二、聚乙烯醇的分散；三、氮化硼层层自组装复合薄膜的制备。本发明用于高强度、抗菌和自修复的氮化硼层层自组装复合薄膜的制备。

主权项

1.一种高强度、抗菌和自修复的氮化硼层层自组装复合薄膜的制备方法，其特征在于它是按照以下步骤进行的：一、氮化硼的分散：将单宁酸加入到去离子水中，避光搅拌0.5h～1h，得到分散好的单宁酸溶液，将氮化硼加入到分散好的单宁酸溶液中，并在搅拌速度为1500rpm～2000rpm的条件下，搅拌0.5h～1h，搅拌后转移到反应釜中，然后将反应釜置于烘箱中，并在温度为100℃～130℃的条件下，反应12h～18h，得到乳白色的氮化硼分散液，最后将乳白色的氮化硼分散液在转速为3000r/min～4000r/min的条件下，离心10min～20min，取上清液并调节上清液pH为2～3，得到组装溶液；所述的氮化硼为六方氮化硼；所述的单宁酸的质量与去离子水的体积比为1g:(150～200)mL；所述的单宁酸与氮化硼的质量比为1:10；二、聚乙烯醇的分散：将聚乙烯醇加入到去离子水中，并在温度为80℃～100℃的条件下，搅拌1h～2h，搅拌后调节pH为1～2，得到聚乙烯醇溶液；所述的聚乙烯醇的质量与去离子水的体积比为1g:(150～200)mL；三、氮化硼层层自组装复合薄膜的制备：①、以带负电的玻璃片作为基体，先将基体置于聚乙烯醇溶液中浸泡5min～10min，浸泡后水洗并吹干，然后置于组装溶液中浸泡5min～10min，浸泡后水洗并吹干，最后置于pH为1～2的水中，并在温度为80℃～100℃的条件下，放置0.5h～1h，得到覆有氮化硼复合薄膜的基体；②、将覆有氮化硼复合薄膜的基体置于聚乙烯醇溶液中浸泡5min～10min，浸泡后水洗并吹干，然后置于组装溶液中浸泡5min～10min，浸泡后水洗并吹干，最后置于pH为1～2的水中，并在温度为80℃～100℃的条件下，放置0.5h～1h；③、重复步骤三②48次～98次，得到高强度、抗菌和自修复的氮化硼层层自组装复合薄膜。