[发明专利]一种连续式大豆清洗系统

摘要

本发明公开了一种连续式大豆清洗系统，属于豆类清洗设备技术领域。其包括阶梯支架、一次清洗机构及二次清洗机构，一次清洗机构包括一次清洗槽、搅拌轴及第一搅拌电机，一次清洗槽包括上腔体及下腔体，上、下腔体之间设有冲孔板，搅拌轴设置在上腔体内，搅拌轴上设有搅拌叶片及出料叶片，搅拌叶片的自由端呈圆弧形，多个搅拌叶片呈螺旋状排布在搅拌轴上；二次清洗机构包括二次清洗槽、输送绞龙及第二搅拌电机。本发明采用阶梯式设置的两次清洗，可连续作业，自动化程度高，无需人工参与，整个清洗过程采用大豆与水混合摩擦清洗，配合搅拌叶片的设计不但磨损率低，且洗净率高，清洗效率高。

主权项

1.一种连续式大豆清洗系统，其特征在于，包括阶梯支架及设置在所述阶梯支架上的一次清洗机构及二次清洗机构，所述阶梯支架包括高阶梯层及低阶梯层，所述一次清洗机构安装在所述高阶梯层上，所述二次清洗机构安装在所述低阶梯层上；所述一次清洗机构包括一次清洗槽、设置在一次清洗槽内的搅拌轴及用于驱动搅拌轴的第一搅拌电机，所述一次清洗槽包括上腔体及下腔体，所述上、下腔体之间设有冲孔板，所述上腔体上设有第一进料口、第一进水口、第一排水口及第一出料口，所述下腔体上设有第一排沙口，所述搅拌轴设置在所述上腔体内，所述上腔体包括设置在前段的搅拌推进腔体及设置在后段的出料腔体，所述搅拌轴上设有叶片，所述叶片包括设置在所述搅拌推进腔体内的搅拌叶片及设置在所述出料腔体内的出料叶片，所述搅拌叶片的自由端呈圆弧形，多个所述搅拌叶片呈螺旋状排布在所述搅拌轴上；所述二次清洗机构包括二次清洗槽、设置在所述二次清洗槽内的输送绞龙及用于驱动输送绞龙的第二搅拌电机，所述二次清洗槽上设有第二进料口、第二进水口、第二排沙口、漂浮物出口及第二出料口，所述第一出料口通向第二进料口，所述第一出料口上设有水豆分离机构，所述输送绞龙的端部穿过所述二次清洗槽与所述第二搅拌电机的输出轴连接。