[发明专利]具有高反射率内壁的微孔光学元件及其制备方法有效

专利信息
申请号: 201610856017.6 申请日: 2016-09-28
公开(公告)号: CN106548821B 公开(公告)日: 2018-01-09
发明(设计)人: 金戈;邱祥彪;丛晓庆;张正君;王健;张智勇;赵慧民;李婧雯;孙赛林;裴晶 申请(专利权)人: 北方夜视技术股份有限公司
主分类号: G21K1/06 分类号: G21K1/06;C23C16/40;C23C16/18;C23C16/455
代理公司: 北京中济纬天专利代理有限公司11429 代理人: 王菊花
地址: 650200 *** 国省代码: 云南;53
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摘要: 发明提供一种具有高反射率内壁的微孔光学元件及其制备方法,该微孔光学元件为密集排布的方形微孔曲面阵列,使用原子层沉积技术在方形微孔内壁沉积复合薄膜,该复合薄膜的材料种类和复合结构经过合理的设计,能够提高X射线在微孔光学元件的通道内壁的反射率,通过这种方法,能够大幅度的提升微孔光学元件的聚焦性能,从而提升器件对于微弱X射线信号的探测精度与效率。
搜索关键词: 具有 反射率 内壁 微孔 光学 元件 及其 制备 方法
【主权项】:
一种具有高反射率内壁的微孔光学元件,其特征在于,包括作为基底的密集排列的方形微孔曲面阵列,以及在所述方形微孔曲面阵列的方形微孔内壁表面覆盖的复合薄膜;所述复合薄膜由两种材料通过一定的方式形成复合结构,其中,材料层A为氧化铝,材料层B为金属,包括金属铂Pt与金属镍Ni中的一种;所述复合结构为材料层A和材料层B的周期叠层结构ABAB…ABAB,其中A层厚度包括5nm、10nm和20nm,其中B层厚度包括5nm,10nm,叠层次数包括5次、10次和20次。
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