[发明专利]高可靠性高压功率半导体模块芯片的制造工艺在审
申请号: | 201610858190.X | 申请日: | 2016-09-29 |
公开(公告)号: | CN106252245A | 公开(公告)日: | 2016-12-21 |
发明(设计)人: | 戴立新;冯立康;洪国东;鲍婕;陈珍海 | 申请(专利权)人: | 黄山市七七七电子有限公司 |
主分类号: | H01L21/56 | 分类号: | H01L21/56;H01L21/02;H01L29/06;H01L29/40 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 245600 *** | 国省代码: | 安徽;34 |
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摘要: | 本发明涉及一种高可靠性高压功率半导体模块芯片的制造工艺,整个制造工艺流程包括:磷扩散、硼扩散、蒸镀钛镍银合金、线切割、磨角、真空烧结、酸腐蚀、双层胶体联合保护、室温硫化、高温固化、检测包装。其中双层胶体联合保护如图所示,是先将聚酰亚胺(PI)胶(图中41)均匀涂敷于芯片台面,形成致密保护层,再使用自主研发的自动涂胶工装夹具,批量涂敷深蓝色硅橡胶(图中42)。本发明结合了GPP方片和OJ圆片两种工艺的优点,对现有功率半导体模块芯片的制造工艺进行改进,有效阻止电子迁移,减小芯片高常温漏电流,致密结构极有利于后续的模块封装和储存,有效提高产品的可靠性和良品率。 | ||
搜索关键词: | 可靠性 高压 功率 半导体 模块 芯片 制造 工艺 | ||
【主权项】:
高可靠性高压功率半导体模块芯片的制造工艺,包括下述步骤:步骤1、将硅单晶片清洗后,进行磷扩散、硼扩散,之后在硅芯片两面蒸镀钛镍银合金层;步骤2、将已经完成扩散工艺的硅晶圆进行线切割,按照需求切割成直径在Φ9 mm~Φ30 mm之间的圆形晶圆;步骤3、采用锥形加球形研磨工艺,得到芯片的台面造型;步骤4、依次将上可伐片、晶圆、下钼片之间放入焊锡片,装入石墨烧结模具,在氮气保护下真空烧结,得到晶圆片与金属电极的多层结构;步骤5、将芯片放在氢氟酸和硝酸的混合溶液中进行酸洗,去离子水清洗后得到完整和洁净的芯片PN结台面;步骤6、在芯片台面表面涂敷特定粘度的聚酰亚胺胶,按照设定的温度曲线阶梯升温、固化烘烤,形成致密的台面保护层;步骤7、采用自动涂胶工装夹具,将芯片进行准确定位,用三维涂胶机批量涂敷深蓝色硅橡胶,依次室温硫化、阶梯升温固化和高温老化,对芯片进行二次保护;步骤8、对芯片的反向耐压、反向重复峰值电流和正向峰值电压3个电性能参数进行检测,对芯片进行高温反偏HTRB、‑40~150oC高低温循环、浪涌电流、全动态测试等可靠性的抽样检测,最后装入定制的托盘和包装盒,真空包装出厂。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
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H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
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H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
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