[发明专利]一种真空灭弧室的无酸清洗工艺在审
申请号: | 201610859126.3 | 申请日: | 2016-09-28 |
公开(公告)号: | CN106493108A | 公开(公告)日: | 2017-03-15 |
发明(设计)人: | 王清华;周倜 | 申请(专利权)人: | 湖北大禹汉光真空电器有限公司 |
主分类号: | B08B3/02 | 分类号: | B08B3/02;B08B3/08;B08B3/12;B08B7/00;B24B1/04 |
代理公司: | 武汉河山金堂专利事务所(普通合伙)42212 | 代理人: | 胡清堂 |
地址: | 432000 *** | 国省代码: | 湖北;42 |
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摘要: | 本发明提供了一种真空灭弧室的无酸清洗工艺,步骤包括(1)采用高压水对真空灭弧室零件进行冲洗;(2)对真空灭弧室零件进行研磨抛光的同时进行清洗;(3)水洗脱水后,将真空灭弧室零件进行真空高温净化。该工艺不依赖酸进行清洗,避免了清洗后的化学制剂难以回收,污染环境的缺陷,且工艺简单,后处理方便易于工业化。 | ||
搜索关键词: | 一种 真空 灭弧室 清洗 工艺 | ||
【主权项】:
一种真空灭弧室的无酸清洗工艺,其特征在于:步骤包括:(1)采用高压水对真空灭弧室零件进行冲洗;(2)对真空灭弧室零件进行研磨抛光的同时进行清洗;(3)水洗脱水后,将真空灭弧室零件进行真空高温净化。
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