[发明专利]一种纳米SiO2气凝胶的制备方法

摘要

本发明公开了一种纳米SiO2气凝胶的制备方法，本发明通过层流等离子体发生装置产生层流等离子体射束，给经过处理的纳米SiO₂粒子进行加热，从而使得纳米SiO₂粒子蒸发、汽化，然后通过冷凝装置对纳米SiO₂粒子进行冷凝，其通过玻璃基板先进行镍磷合金薄膜层先进行沉积，再用沉积后的玻璃基板对已经分筛、干燥、蒸发、汽化、冷凝的纳米SiO₂粒子进行静电吸附。沉积后的玻璃基板对纳米SiO₂粒子的吸附均匀，形成的纳米SiO₂气凝胶无孔隙，质地均匀。将纳米SiO₂粒子的前处理和静电吸附基板处理相结合，从而提高大大提高了纳米SiO₂气凝胶的制备效率。

主权项

1.一种纳米SiO2气凝胶的制备方法，其特征在于：包括以下工艺步骤：A、采用层流等离子体发生器产生层流等离子射束；采用的层流等离子体发生器包括依次连接的气路结构、发生器和电弧通道结构；B、对纳米SiO2粒子依次进行分筛、超临界流体进行干燥，再通过送粉装置将纳米SiO2粒子送入层流等离子体发生器内，对纳米SiO2粒子进行蒸发、汽化；C、对纳米SiO2粒子放入冷凝装置中进行冷凝；冷凝时间为1.5‑2h；D、在玻璃基板上采用电弧等离子体镀法沉积至少三层镍磷合金薄膜层；将玻璃基板放入静电吸附装置中，对纳米SiO2粒子进行静电吸附成型；在步骤C中，对纳米SiO2粒子冷凝采用的是真空泵列管冷却器；在步骤D中，采用的静电吸附装置包括高压发生器和静电发生器；先打开高压发生器产生高压，再打开静电发生器形成高压电场；在对纳米SiO2粒子进行冷凝时，将纳米SiO2粒子放置在密封机构内进行冷凝，冷凝后在室温下缓冲放置 5‑10min。