[发明专利]用于高生产量制图的自适应射束电流

摘要

本发明涉及用于高生产量制图的自适应射束电流。提供了一种用于规划用于材料沉积的射束路径的方法，其中，具有变化尺寸的特征的结构图案被分析以确定每一个特征的尺寸。遍历结构图案的射束路径被确定，并且针对在结构图案中的每一个点所需的射束电流被配置。配置针对每一个点所需的射束电流包括确定针对该点的可接受的射束剂量。相对小的特征对于高精度要求低的射束电流，并且相对大的特征能够使用允许更快沉积的更高射束电流来形成。在结构图案中的每一个特征在允许特征的精确沉积可接受的最高的射束电流下被沉积。

主权项

一种用于射束诱导材料沉积的方法，包括以下步骤：确定要沉积的二维特征的图；分析所述图以确定要沉积的二维特征的尺寸；从要沉积的二维特征的尺寸确定针对二维特征的每一个点的射束电流；确定用于沉积二维特征的射束扫描路径；以及以用于沉积材料的扫描图案扫描射束从而形成二维特征，不同的射束电流被用于扫描图案中的至少一些点。