[发明专利]屏障过滤器及过滤方法、光刻用药液纯化品的制造方法以及抗蚀剂图案形成方法有效
| 申请号： | 201610862403.6 | 申请日： | 2016-09-28 |
| 公开（公告）号： | CN106552517B | 公开（公告）日： | 2021-10-26 |
| 发明（设计）人： | 中田明彦;森冈章仁;菅原司 | 申请（专利权）人： | 东京应化工业株式会社 |
| 主分类号： | B01D71/64 | 分类号： | B01D71/64;B01D61/00;G03F7/26;G03F7/004 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 朱丹 |
| 地址： | 日本神*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明提供具备聚酰亚胺系树脂多孔膜的、用于过滤光刻用药液的屏障过滤器。本发明提供包括使光刻用药液通过该屏障过滤器的操作的过滤方法。本发明提供具有利用该过滤方法过滤光刻用药液的工序的光刻用药液纯化品的制造方法。 | ||
| 搜索关键词： | 屏障 过滤器 过滤 方法 光刻 用药 纯化 制造 以及 抗蚀剂 图案 形成 | ||
【主权项】：
一种屏障过滤器，其是用于过滤光刻用药液的屏障过滤器，所述屏障过滤器具备聚酰亚胺系树脂多孔膜。
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