[发明专利]一种磁共振成像系统及其参数确定方法有效
| 申请号： | 201610864040.X | 申请日： | 2016-09-29 |
| 公开（公告）号： | CN106291422B | 公开（公告）日： | 2023-09-01 |
| 发明（设计）人： | 徐雅洁;常严;陈巧燕;杨晓冬 | 申请（专利权）人： | 中国科学院苏州生物医学工程技术研究所 |
| 主分类号： | G01R33/48 | 分类号： | G01R33/48;G01R33/385;A61B5/055 |
| 代理公司： | 北京三聚阳光知识产权代理有限公司 11250 | 代理人： | 吴黎 |
| 地址： | 215163 江苏*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种磁共振成像系统及其参数确定方法，其中磁共振成像系统包括：上磁体、下磁体，以及上匀场环、下匀场环；上磁体与下磁体正对设置；上匀场环内设置有第一梯度线圈和第一主动屏蔽线圈；第一主动屏蔽线圈设置于第一梯度线圈的外周；第一主动屏蔽线圈与第一梯度线圈内电流的流向相反；下匀场环内设置有第二梯度线圈和第二主动屏蔽线圈；第二主动屏蔽线圈设置于第二梯度线圈的外周；第二主动屏蔽线圈与第二梯度线圈内电流的流向相反，并且第二主动屏蔽线圈与第一主动屏蔽线圈内电流的流向相反。利用主动屏蔽线圈产生的磁场来达到抑制涡流磁场的目的；该主动屏蔽线圈设置于梯度线圈的外周，不会额外占用磁体内部口径空间。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 磁共振 成像 系统 及其 参数 确定 方法 | ||
【主权项】：
一种磁共振成像系统，其特征在于，包括：上磁体、下磁体，以及上匀场环、下匀场环；所述上磁体与所述下磁体正对设置；所述上匀场环设置于所述上磁体的下方；所述上匀场环内设置有第一梯度线圈和第一主动屏蔽线圈；所述第一主动屏蔽线圈设置于所述第一梯度线圈的外周；所述第一主动屏蔽线圈与所述第一梯度线圈内电流的流向相反；所述下匀场环设置于所述下磁体的上方；所述下匀场环内设置有第二梯度线圈和第二主动屏蔽线圈；所述第二主动屏蔽线圈设置于所述第二梯度线圈的外周；所述第二主动屏蔽线圈与所述第二梯度线圈内电流的流向相反，并且所述第二梯度线圈与所述第一梯度线圈内电流的流向相反。
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