[发明专利]一种晶片真空自动传输系统及传输方法

摘要

晶片真空自动传输系统及方法，系统包括真空物料室、真空传输室、真空反应室及机械手，真空物料室与真空传输室连通，真空传输室与真空反应室之间设有隔离阀，真空物料室内设有上料片盒和下料片盒，机械手的机械手指位于真空传输室内，真空反应室内设有工件台，工件台上设有基片盘，上料片盒和下料片盒分别配设有升降驱动组件，基片盘配设有顶片组件；方法包括取片，机械手指伸入上料片盒下方，将上料片盒当前最下层的晶片托起；装片，打开隔离阀，机械手指运动至基片盘上方，顶片组件上升将机械手指上的晶片顶起，然后机械手指退回，顶片组件下降，晶片落入基片盘内，关闭隔离阀；卸片；放片。本发明具有成本低、自动化程度高、可避免相邻晶片污染的优点。

主权项

1.一种晶片真空自动传输系统，其特征在于：包括真空物料室（1）、真空传输室（2）、真空反应室（3）及带有用于托起晶片的机械手指（41）的机械手（4），真空物料室（1）与真空传输室（2）连通，真空传输室（2）与真空反应室（3）之间设有隔离阀（8），所述真空物料室（1）内设有上料片盒（11）和下料片盒（12），所述机械手（4）的机械手指（41）位于所述真空传输室（2）内，所述真空反应室（3）内设有工件台（31），所述工件台（31）上设有基片盘（32），所述上料片盒（11）和下料片盒（12）分别配设有升降驱动组件（5），所述基片盘（32）配设有顶片组件（9），机械手指（41）自下往上依次取片、自上往下依次放片。/n