[发明专利]一种磁控溅射镀膜机有效
| 申请号： | 201610865393.1 | 申请日： | 2016-09-29 |
| 公开（公告）号： | CN106435499B | 公开（公告）日： | 2019-01-29 |
| 发明（设计）人： | 佘鹏程;彭立波;龚俊;范江华 | 申请（专利权）人： | 中国电子科技集团公司第四十八研究所 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35 |
| 代理公司： | 湖南兆弘专利事务所(普通合伙) 43008 | 代理人： | 周长清;徐好 |
| 地址： | 410111 湖南*** | 国省代码： | 湖南;43 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种磁控溅射镀膜机，包括腔体、基片台及多个溅射靶，多个溅射靶沿基片台圆周方向布置并朝基片台偏转，所述腔体底部于相邻两个溅射靶之间分别安装有一组隔板组件，所述溅射靶与所述基片台之间设有旋转挡板组件，所述旋转挡板组件上开设有供单个溅射靶进行溅射工艺的缺口。本发明具有构简单可靠、成本低、可对溅射靶形成有效保护、减少靶材之间的交叉污染、提高沉膜质量等优点。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 磁控溅射 镀膜 | ||
【主权项】：
1.一种磁控溅射镀膜机，包括腔体（1）、基片台（2）及多个溅射靶（3），多个溅射靶（3）沿基片台（2）圆周方向布置并朝基片台（2）偏转，其特征在于：所述基片台（2）的高度大于所述溅射靶（3）的高度，所述腔体（1）底部于相邻两个溅射靶（3）之间分别安装有一组隔板组件（4），所述溅射靶（3）与所述基片台（2）之间设有旋转挡板组件（5），所述旋转挡板组件（5）上开设有供单个溅射靶（3）进行溅射工艺的缺口（6），所述隔板组件（4）沿所述基片台（2）径向布置，且随着与基片台（2）之间距离的增加，隔板组件（4）上侧面的高度逐渐增加，所述旋转挡板组件（5）呈漏斗状且轴心线与基片台（2）的轴心线重合，所述旋转挡板组件（5）的母线与旋转挡板组件（5）的轴心线之间的夹角为α，所述隔板组件（4）的上侧面与旋转挡板组件（5）的轴心线之间的夹角为β，则α=β。
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