[发明专利]原料气体供给装置和原料气体供给方法

摘要

本发明提供使固体原料气化而将含有气体的原料气体供给到成膜处理部时使气化的原料的供给量稳定的技术。在用于向原料容器供给运载气体的运载气体供给通路设置有MFC1，在原料气体供给通路设置有MFM3。并且，在向原料气体供给通路供给稀释气体的稀释气体供给通路设置有MFC2。求取从MFM3的测量值减去MFC1的测量值和MFC2的测量值的合计值而得的偏差值，基于从MFM3的测量值减去MFC1的测量值和MFC2的测量值的合计值而得的值，求取减去偏差值的原料的流量的实测值。依据原料的流量的实测值与原料的目标值的差，调整MFC1的设定值而调整运载气体的流量，调整包含于原料气体的原料的量。

主权项

一种原料气体供给装置，其使原料容器内的固体或液体的原料气化而与运载气体一起作为原料气体经由原料气体供给通路供给至对基板进行成膜处理的成膜处理部，所述原料气体供给装置的特征在于，包括：用于对所述原料容器供给运载气体的运载气体供给通路；从所述运载气体供给通路分支，绕过所述原料容器与原料气体供给通路连接的旁通流路；与所述原料气体供给通路中的比所述旁通流路的连接部位靠下游侧的位置连接，用于使稀释气体与原料气体合流的稀释气体供给通路；与所述运载气体供给通路和所述稀释气体供给通路分别连接的第一质量流量控制器和第二质量流量控制器；设置在所述原料气体供给通路中的稀释气体供给通路的合流部位的下游侧的质量流量计测器；将从所述运载气体供给通路至原料气体供给通路的运载气体流路在所述原料容器内与旁通流路间进行切换的切换机构；和控制部，其执行下述步骤：在令所述第一质量流量控制器、第二质量流量控制器和质量流量计测器的流量的各测量值分别为m1、m2和m3时，在将所述运载气体流路切换到旁通流路侧的状态下流通运载气体和稀释气体，求取作为(m3‑(m1+m2))的运算值的偏差值的第一步骤；在将所述运载气体流路切换到原料容器侧的状态下流通运载气体和稀释气体，求取(m3‑(m1+m2))的运算值，从该运算值减去所述偏差值而求取原料的流量的实测值，求取原料的流量的目标值与所述实测值的差值的第二步骤；和基于所述差值与原料的流量的增减量和运载气体的增减量的关系，调整第一质量流量控制器的设定值使得原料的流量成为目标值的第三步骤。