[发明专利]一种防爆金属化薄膜有效
| 申请号： | 201610866741.7 | 申请日： | 2016-09-30 |
| 公开（公告）号： | CN106340382B | 公开（公告）日： | 2018-06-01 |
| 发明（设计）人： | 陈五一 | 申请（专利权）人： | 铜陵市超越电子有限公司 |
| 主分类号： | H01G2/16 | 分类号： | H01G2/16;H01G4/33 |
| 代理公司： | 合肥东信智谷知识产权代理事务所(普通合伙) 34143 | 代理人： | 王学勇 |
| 地址： | 244000 安徽省铜陵市狮子山*** | 国省代码： | 安徽;34 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种防爆金属化薄膜，包括绝缘基膜，绝缘基膜的正面设置有镀铝层，绝缘基膜的背面设置有镀锑层，镀锑层的表面设置有保护膜；镀铝层上设置有多组呈阵列分布的空白区组，相邻的空白区组之间设置有间隙；空白区组包括最少八个圆形空白区，空白区按圆周排列在绝缘基膜的正面，相邻的空白区之间设置有间隙。该防爆金属化薄膜的阻燃效果好，能够有效避免发生大规模击穿或自愈，防爆效果好，安全性高。 | ||
| 搜索关键词： | 空白区 绝缘基膜 金属化薄膜 防爆 镀铝层 锑层 背面设置 表面设置 防爆效果 圆周排列 阵列分布 正面设置 保护膜 击穿 自愈 阻燃 | ||
【主权项】：
1.一种防爆金属化薄膜，包括绝缘基膜，绝缘基膜的正面设置有镀铝层，其特征在于：所述绝缘基膜的背面设置有镀锑层，镀锑层的表面设置有保护膜；所述镀铝层上设置有多组呈阵列分布的空白区组，相邻的空白区组之间设置有间隙；所述空白区组包括最少八个圆形空白区，所有空白区按圆周排列在绝缘基膜的正面，相邻的空白区之间设置有间隙；所述镀锑层的制作方法为，将绝缘基膜送入第一真空镀膜机中，第一真空镀膜机中的第一送丝机构将锑丝送入锑坩埚中，锑坩埚加热温度在1260℃～1280℃，锑丝在锑坩埚中从锑熔液变为锑蒸气，锑蒸气在绝缘基膜的背面冷却沉积形成镀锑层；其中，第一真空镀膜机中第一冷却主辊的工作温度为8℃～10℃；所述保护膜的制作方法为，将绝缘基膜的背面蒸镀有镀锑层后，再将绝缘基膜送入氧化槽中，氧化槽中持续通入质量分数为3‰～5‰的次氯酸溶液，次氯酸溶液的温度为2～5℃，绝缘基膜在氧化槽中的前进速率为15～16mm/s，然后将绝缘基膜送入清洗槽中，清洗槽中持续通入去离子水，然后将绝缘基膜在20～25℃的温度下吹干，即可在镀锑层的表面形成保护膜。
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