[发明专利]电子部件用多层布线膜以及覆盖层形成用溅射靶材有效
| 申请号： | 201610866976.6 | 申请日： | 2016-09-29 |
| 公开（公告）号： | CN107039097B | 公开（公告）日： | 2019-04-23 |
| 发明（设计）人： | 村田英夫 | 申请（专利权）人： | 日立金属株式会社 |
| 主分类号： | H01B1/02 | 分类号： | H01B1/02;H01B5/14;C23C14/35;C23C14/18 |
| 代理公司： | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 | 代理人： | 刘新宇;李茂家 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 提供电子部件用多层布线膜以及覆盖层形成用溅射靶材，其具有由Al或Al合金形成的导电层以及覆盖该导电层的至少一侧的新型的覆盖层，其在确保密合性、耐腐蚀性、抗氧化性的同时，能够稳定地进行高精度的湿式蚀刻。电子部件用多层布线膜，其具有由Al或Al合金形成的导电层以及覆盖该导电层的至少一侧的面的覆盖层，前述覆盖层含有选自Mn和Cu中的一种以上元素以及30～75原子％的Ni，余量由Mo和不可避免的杂质组成；以及覆盖层形成用溅射靶材，其含有选自Mn和Cu中的一种以上元素以及30～75原子％的Ni，余量由Mo和不可避免的杂质组成。 | ||
| 搜索关键词： | 电子 部件 多层 布线 以及 覆盖层 形成 溅射 | ||
【主权项】：
1.一种电子部件用多层布线膜，其具有由Al或Al合金形成的导电层以及覆盖该导电层的至少一侧的面的覆盖层，其特征在于，所述覆盖层含有3～25原子％的Mn以及30～35原子％的Ni，余量由Mo和不可避免的杂质组成，所述覆盖层的反射率为36％～61％。
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