[发明专利]一种可降低缺陷密度的碲化镉太阳能电池制备方法在审
申请号: | 201610867198.2 | 申请日: | 2016-09-28 |
公开(公告)号: | CN106252432A | 公开(公告)日: | 2016-12-21 |
发明(设计)人: | 蓝仕虎;何光俊;陈金良;齐鹏飞;唐智勇 | 申请(专利权)人: | 中山瑞科新能源有限公司 |
主分类号: | H01L31/0296 | 分类号: | H01L31/0296;H01L31/0445;H01L31/18 |
代理公司: | 广州嘉权专利商标事务所有限公司44205 | 代理人: | 伍传松 |
地址: | 528400 广东*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | 本发明公开了一种可降低缺陷密度的碲化镉太阳能电池制备方法,包括以下步骤:(A)提供基板;(B)在所述基板上沉积透明导电氧化物薄膜;(C)沉积窗口层硫化镉薄膜;(D)在所述硫化镉薄膜上沉积吸收层碲化镉薄膜;(E)在所述碲化镉薄膜表面喷涂CdCl2溶液,然后进行热处理;(F)对所述经过热处理的碲化镉薄膜用含硝酸的溶液进行刻蚀;(G)对所述刻蚀的碲化镉薄膜进行PECVD等离子体处理以钝化缺陷。本发明的方法是通过在碲化镉薄膜(CdTe)太阳能电池制造过程中,引入等离子体处理,钝化缺陷,有效降低碲化镉薄膜的缺陷密度,提高材料的性能,进一步提高碲化镉薄膜太阳能电池的光电转换效率,从而提高电池性能。 | ||
搜索关键词: | 一种 降低 缺陷 密度 碲化镉 太阳能电池 制备 方法 | ||
【主权项】:
一种可降低缺陷密度的碲化镉太阳能电池制备方法,其特征在于,包括以下步骤:(A)提供基板;(B)在所述基板上沉积用作薄膜电池前电极的透明导电氧化物薄膜;(C)在所述透明导电氧化物薄膜表面沉积窗口层硫化镉薄膜;(D)在所述硫化镉薄膜上沉积吸收层碲化镉薄膜;(E)在所述碲化镉薄膜表面喷涂CdCl2溶液,然后进行热处理;(F)对所述经过热处理的碲化镉薄膜用含硝酸的溶液进行刻蚀;(G)对所述刻蚀的碲化镉薄膜进行PECVD等离子体处理以钝化缺陷;(H)在所述处理后的碲化镉薄膜上沉积缓冲层;(I)在所述缓冲层表面沉积金属背电极;(J)对沉积金属背电极后的电池进行退火层压。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的
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