[发明专利]一种非均匀微带线至带状线过渡结构有效
| 申请号： | 201610871225.3 | 申请日： | 2016-09-29 |
| 公开（公告）号： | CN106159404B | 公开（公告）日： | 2019-10-11 |
| 发明（设计）人： | 沈玮;李振海;陈凯;化宁;刘宇;张理正 | 申请（专利权）人： | 上海航天测控通信研究所 |
| 主分类号： | H01P3/18 | 分类号： | H01P3/18;H01P5/08 |
| 代理公司： | 上海汉声知识产权代理有限公司 31236 | 代理人： | 邵晓丽;胡晶 |
| 地址： | 201109 *** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种非均匀微带线至带状线过渡结构，包括：金属层及介质层，金属层层数为N，N≥4，N层金属层依次堆叠设置，介质层的层数为N‑1，介质层设置于每相邻两层金属层之间；还包括：非均匀输入微带线、非均匀输出微带线、带状线、圆形槽及信号盲孔；非均匀输入、输出微带线设置于第一层金属层上；当金属层层数N＝4，带状线设置于第三层金属层上，圆形槽设置于第二层金属层上；当金属层层数N>4，带状线设置于第三至第N‑1层之间的任意一层金属层上，圆形槽设置于第二至带状线所在的金属层之间的任意一层上；信号盲孔的垂直投影位于圆形槽的垂直投影内；信号盲孔用于连接带状线与非均匀输入、输出微带。本发明能够非均匀微带线结构。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 均匀 微带 带状线 过渡 结构 | ||
【主权项】：
1.一种非均匀微带线至带状线过渡结构，其特征在于，包括：金属层以及介质层，所述金属层的层数为N，N≥4，N层所述金属层依次堆叠设置，所述介质层的层数为N‑1，所述介质层设置于每相邻两层所述金属层之间；还包括信号盲孔；所述金属层包括：非均匀输入微带线、非均匀输入微带线接地面、非均匀输出微带线、非均匀输出微带线接地面、带状线、带状线上表面地、带状线下表面地以及圆形槽；所述非均匀输入微带线及所述非均匀输出微带线设置于第一层所述金属层上，在多层介质层结构中，在不同介质厚度的介质层上加工实现不同的微带线；当所述金属层的层数N＝4时，所述带状线设置于第三层所述金属层上，所述圆形槽设置于第二层所述金属层上；当所述金属层的层数N>4时，所述带状线设置于第三层所述金属层至第N‑1层所述金属层之间的任意一层所述金属层上，所述圆形槽设置于第二层金属层至所述带状线所在的金属层上一层之间的任意一层所述金属层上；所述信号盲孔用于连接所述带状线与所述非均匀输入微带线，以及连接所述带状线与所述非均匀输出微带线。
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