[发明专利]激光刻蚀方法和装置、衬底电极及电致发光器件

摘要

本发明公开了一种激光刻蚀方法和装置、衬底电极及电致发光器件。该激光刻蚀方法包括利用激光束对待刻蚀对象进行刻蚀的步骤，待刻蚀对象上设有至少一个待刻蚀区域，激光束包括用于使待刻蚀区域内的导电材料气化的主激光束，以及用于降低待刻蚀区域边缘对应空间内的温度下降速率的辅助激光束。本发明在刻蚀步骤中采用两种类型的激光束：主激光束能使待刻蚀区域内的导电材料气化，而辅助激光束用于提高待刻蚀区域边缘对应空间内的温度，从而降低待刻蚀区域边缘对应空间内的温度下降速率，防止气化的导电材料在从待刻蚀区域对应空间向外扩散的过程中因待刻蚀区域边缘对应空间内温度过低而发生沉积，避免在待刻蚀对象表面形成凸起。

主权项

1.一种激光刻蚀方法，包括利用激光束对待刻蚀对象进行刻蚀的步骤，所述待刻蚀对象包括导电材料，所述待刻蚀对象上设有至少一个待刻蚀区域，其特征在于，所述激光束包括用于使待刻蚀区域内的导电材料气化的主激光束，以及用于降低所述待刻蚀区域边缘对应空间内的温度下降速率的辅助激光束，所述的辅助激光束防止了气化的导电材料在从待刻蚀区域对应空间向外扩散的过程中因待刻蚀区域边缘对应空间内温度过低而发生沉积的现象，从而避免了在待刻蚀对象表面形成凸起；还包括激光器和用于将所述激光器发射的激光束分为主激光束和辅助激光束的光学器件，所述光学器件包括：分光元件，用于将所述激光器发射的初始激光束分为主激光束和反射激光束；至少一个反射镜，用于将所述反射激光束转换为所述辅助激光束，并使所述辅助激光束形成的第一光斑涵盖所述主激光束形成的第二光斑，或者，使所述第一光斑的全部或部分处于第二光斑周围；‑初始激光束的平均功率为15W@30kHz、激光波长为355nm、脉冲宽度为12ns、脉冲重复频率为1～100kHz、偏振方向为水平偏振、初始激光束的出口光斑直径为1mm、光斑圆变为92％、移动速度为10mm/s、移动轨迹为设定的直线轨迹；或者，‑主激光束和辅助激光束的波长均为355nm、脉冲宽度均为12ns、脉冲重复频率均为1～100kHz、偏振方向均为水平偏振、主激光束的第二光斑直径均为1mm、辅助激光束的光斑直径均为1.6mm、光斑圆均变为92％、主激光器的平均功率均为8W@30kHz、辅助激光器的平均功率均为5W@30kHz，主激光器和辅助激光器的开启时间相同，移动速度均为10mm/s、移动轨迹均为设定的直线轨迹，辅助激光束与主激光束同步移动。