[发明专利]一种低电容功率TVS器件及其制造方法有效

专利信息
申请号: 201610874344.4 申请日: 2016-09-30
公开(公告)号: CN106252349B 公开(公告)日: 2019-10-29
发明(设计)人: 刘宗贺;邹有彪;王泗禹;徐玉豹 申请(专利权)人: 富芯微电子有限公司
主分类号: H01L27/02 分类号: H01L27/02;H01L21/822
代理公司: 北京和信华成知识产权代理事务所(普通合伙) 11390 代理人: 胡剑辉
地址: 230000 安徽省合*** 国省代码: 安徽;34
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摘要: 发明公开一种低电容功率TVS器件,属于半导体防护器件领域,所述低电容功率TVS器件是由功率TVS二极管和低电容二极管串联的单片集成器件,包括N型半导体基体、N+型扩散层、P+型扩散层、离子注入区、钝化层、金属层。本发明将功率TVS二极管和低电容的二极管串联集成在单一芯片上,使封装简单化,提高封装的良率,采用高阻N型半导体衬底制造,降低器件的结电容,避免通信信号失真,同时通过控制离子注入量,控制器件的反向击穿电压为75‑100V。
搜索关键词: 一种 电容 功率 tvs 器件 及其 制造 方法
【主权项】:
1.一种低电容功率TVS器件,其特征在于:包括N型半导体基体、N+型扩散层、P+型扩散层、离子注入区、钝化层、金属层;所述N型半导体基体位于器件的中间,所述N+型扩散层位于N型半导体基体的下表面,所述P+型扩散层位于所述N型半导体基体的上表面,在所述P+型扩散层的内部分布有所述N+型扩散层,所述离子注入区介于所述P+型扩散层和所述N型半导体基体之间的区域,所述钝化层位于所述N型半导体基体上部两侧的凹槽内,所述金属层分别位于所述P+型扩散层内的N+型扩散层的上表面和所述N型半导体基体下部的N+型扩散层的下表面;所述低电容功率TVS器件是功率TVS二极管和低电容二极管串联的单片集成器件;电极T1与P+型扩散层上部的N+型扩散层上表面的金属层连接,电极T2与N型半导体基体下部的N+型扩散层下表面的金属层连接;当电极T1上的浪涌电压高于电极T2上的浪涌电压时,器件上部的P+型扩散层和位于P+型扩散层内的N+型扩散层构成的PN结处于反偏状态,而P+型扩散层和N型半导体基体构成的PN结处于正偏状态,瞬态浪涌高压使反偏的PN结发生雪崩击穿,同时雪崩击穿结和正偏的PN结将浪涌电流泄放;当电极T1上不出现浪涌电压,电极T2相对于电极T1加高电压时,器件上部的P+型扩散层和N型离子注入区构成的PN结处于反偏状态,通过控制N型离子注入区的浓度可以将器件的反向工作电压控制在75‑100V之间。
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