[发明专利]一种低电容功率TVS器件及其制造方法有效
申请号: | 201610874344.4 | 申请日: | 2016-09-30 |
公开(公告)号: | CN106252349B | 公开(公告)日: | 2019-10-29 |
发明(设计)人: | 刘宗贺;邹有彪;王泗禹;徐玉豹 | 申请(专利权)人: | 富芯微电子有限公司 |
主分类号: | H01L27/02 | 分类号: | H01L27/02;H01L21/822 |
代理公司: | 北京和信华成知识产权代理事务所(普通合伙) 11390 | 代理人: | 胡剑辉 |
地址: | 230000 安徽省合*** | 国省代码: | 安徽;34 |
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摘要: | 本发明公开一种低电容功率TVS器件,属于半导体防护器件领域,所述低电容功率TVS器件是由功率TVS二极管和低电容二极管串联的单片集成器件,包括N型半导体基体、N+型扩散层、P+型扩散层、离子注入区、钝化层、金属层。本发明将功率TVS二极管和低电容的二极管串联集成在单一芯片上,使封装简单化,提高封装的良率,采用高阻N型半导体衬底制造,降低器件的结电容,避免通信信号失真,同时通过控制离子注入量,控制器件的反向击穿电压为75‑100V。 | ||
搜索关键词: | 一种 电容 功率 tvs 器件 及其 制造 方法 | ||
【主权项】:
1.一种低电容功率TVS器件,其特征在于:包括N型半导体基体、N+型扩散层、P+型扩散层、离子注入区、钝化层、金属层;所述N型半导体基体位于器件的中间,所述N+型扩散层位于N型半导体基体的下表面,所述P+型扩散层位于所述N型半导体基体的上表面,在所述P+型扩散层的内部分布有所述N+型扩散层,所述离子注入区介于所述P+型扩散层和所述N型半导体基体之间的区域,所述钝化层位于所述N型半导体基体上部两侧的凹槽内,所述金属层分别位于所述P+型扩散层内的N+型扩散层的上表面和所述N型半导体基体下部的N+型扩散层的下表面;所述低电容功率TVS器件是功率TVS二极管和低电容二极管串联的单片集成器件;电极T1与P+型扩散层上部的N+型扩散层上表面的金属层连接,电极T2与N型半导体基体下部的N+型扩散层下表面的金属层连接;当电极T1上的浪涌电压高于电极T2上的浪涌电压时,器件上部的P+型扩散层和位于P+型扩散层内的N+型扩散层构成的PN结处于反偏状态,而P+型扩散层和N型半导体基体构成的PN结处于正偏状态,瞬态浪涌高压使反偏的PN结发生雪崩击穿,同时雪崩击穿结和正偏的PN结将浪涌电流泄放;当电极T1上不出现浪涌电压,电极T2相对于电极T1加高电压时,器件上部的P+型扩散层和N型离子注入区构成的PN结处于反偏状态,通过控制N型离子注入区的浓度可以将器件的反向工作电压控制在75‑100V之间。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的
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