[发明专利]正电子发射断层成像系统有源模体定位方法有效
| 申请号： | 201610875143.6 | 申请日： | 2016-09-30 |
| 公开（公告）号： | CN106333701B | 公开（公告）日： | 2019-05-31 |
| 发明（设计）人： | 邓子林;卢洁 | 申请（专利权）人： | 上海联影医疗科技有限公司 |
| 主分类号： | A61B6/03 | 分类号： | A61B6/03 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 201807 上海市*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明提供一种利用正电子发射断层成像系统进行有源模体定位方法，包括：使用该正电子发射断层成像系统进行数据采集，获取该有源模体的重建图像；选择重建图像中穿过有源模体部分图像的任一截面，沿任一方向获取该截面的灰度轮廓曲线；根据该灰度轮廓曲线选取阈值，并基于该阈值对该重建图像进行二值化处理；根据二值化处理后的重建图像获取该有源模体的中心位置。本发明不依赖于精确且计算量大的图像重建过程，易于实现且定位精度较高。 | ||
| 搜索关键词： | 正电子 发射 断层 成像 系统 有源 定位 方法 | ||
【主权项】：
1.一种利用正电子发射断层成像系统进行有源模体定位方法，包括：使用该正电子发射断层成像系统进行数据采集，获取该有源模体的重建图像；选择重建图像中穿过有源模体部分图像的任一截面，沿任一方向获取该截面的灰度轮廓曲线；根据该灰度轮廓曲线选取阈值，并基于该阈值对该重建图像进行二值化处理；根据二值化处理后的重建图像获取该有源模体的中心位置。
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