[发明专利]利用正电子发射断层成像系统进行有源模体定位方法在审
申请号: | 201610875144.0 | 申请日: | 2016-09-30 |
公开(公告)号: | CN106333702A | 公开(公告)日: | 2017-01-18 |
发明(设计)人: | 邓子林;樊馨 | 申请(专利权)人: | 上海联影医疗科技有限公司 |
主分类号: | A61B6/03 | 分类号: | A61B6/03 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 201807 上海市*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 本发明提供一种利用正电子发射断层成像系统进行有源模体定位方法,包括使用该正电子发射断层成像系统进行数据采集,获取该有源模体的投影数据;沿第一方向进行反投影操作,获取第一方向的轮廓曲线;沿垂直于第一方向的第二方向进行反投影操作,获取第二方向的轮廓曲线;根据所述第一方向及第二方向的轮廓曲线,获取有源模体的中心位置。本发明可快速高效地在采集过程中进行定位,有利于PET系统质量监控快速有效的进行,且相对于机械定位法有较高的定位精度。 | ||
搜索关键词: | 利用 正电子 发射 断层 成像 系统 进行 有源 定位 方法 | ||
【主权项】:
一种利用正电子发射断层成像系统进行有源模体定位方法,包括:使用该正电子发射断层成像系统进行数据采集,获取该有源模体的投影数据;沿第一方向进行反投影操作,获取第一方向的轮廓曲线;沿基本垂直于第一方向的第二方向进行反投影操作,获取第二方向的轮廓曲线;根据所述第一方向及第二方向的轮廓曲线,获取有源模体的中心位置。
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