[发明专利]一种显示基板及其制作方法、显示装置有效
申请号: | 201610875259.X | 申请日: | 2016-09-30 |
公开(公告)号: | CN106298813B | 公开(公告)日: | 2019-11-01 |
发明(设计)人: | 张方振 | 申请(专利权)人: | 京东方科技集团股份有限公司 |
主分类号: | H01L27/12 | 分类号: | H01L27/12;H01L21/77 |
代理公司: | 北京银龙知识产权代理有限公司 11243 | 代理人: | 许静;刘伟 |
地址: | 100015 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本发明涉及显示技术领域,公开了一种显示基板及其制作方法、显示装置。所述制作方法包括形成薄膜晶体管的步骤,其中,薄膜晶体管的有源层与源电极和漏电极通过不同的构图工艺形成,以防止出现SDT不良,提高产品的良率,且栅电极位于有源层下方,在形成有源层的过程中在栅绝缘层中形成过孔,从而与源电极、漏电极同层的第二导电层图形和与栅电极同层的第一导电层图形能够通过栅绝缘层中的过孔直接电性接触,简化制作工艺,缺省了桥接线的制作,有利于实现高分辨率和窄边框。 | ||
搜索关键词: | 一种 显示 及其 制作方法 显示装置 | ||
【主权项】:
1.一种显示基板的制作方法,所述显示基板包括多个位于显示区域的像素区域,所述制作方法包括:在每一像素区域形成薄膜晶体管,包括:形成栅电极、形成覆盖栅电极的栅绝缘层,以及在所述栅绝缘层上形成源电极、漏电极和有源层;形成与所述栅电极同层的第一导电层图形;形成与所述源电极和漏电极同层的第二导电层图形,其特征在于,所述栅绝缘层中具有第一过孔,通过一次构图工艺形成所述有源层和第一过孔,所述第二导电层图形通过所述第一过孔与所述第一导电层图形直接电性接触;所述制作方法还包括:在非显示区域形成栅扫描驱动电路的功能膜层,所述功能膜层包括第一信号线,所述第一导电层图形包括第一子导电层图形,所述第二导电层图形包括第二子导电层图形;所述第一子导电层图形和第二子导电层图形的延伸方向相同,并通过所述第一过孔并联,形成所述第一信号线。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
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