[发明专利]一种显示基板及其制作方法、显示装置有效

专利信息
申请号: 201610875259.X 申请日: 2016-09-30
公开(公告)号: CN106298813B 公开(公告)日: 2019-11-01
发明(设计)人: 张方振 申请(专利权)人: 京东方科技集团股份有限公司
主分类号: H01L27/12 分类号: H01L27/12;H01L21/77
代理公司: 北京银龙知识产权代理有限公司 11243 代理人: 许静;刘伟
地址: 100015 *** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明涉及显示技术领域,公开了一种显示基板及其制作方法、显示装置。所述制作方法包括形成薄膜晶体管的步骤,其中,薄膜晶体管的有源层与源电极和漏电极通过不同的构图工艺形成,以防止出现SDT不良,提高产品的良率,且栅电极位于有源层下方,在形成有源层的过程中在栅绝缘层中形成过孔,从而与源电极、漏电极同层的第二导电层图形和与栅电极同层的第一导电层图形能够通过栅绝缘层中的过孔直接电性接触,简化制作工艺,缺省了桥接线的制作,有利于实现高分辨率和窄边框。
搜索关键词: 一种 显示 及其 制作方法 显示装置
【主权项】:
1.一种显示基板的制作方法,所述显示基板包括多个位于显示区域的像素区域,所述制作方法包括:在每一像素区域形成薄膜晶体管,包括:形成栅电极、形成覆盖栅电极的栅绝缘层,以及在所述栅绝缘层上形成源电极、漏电极和有源层;形成与所述栅电极同层的第一导电层图形;形成与所述源电极和漏电极同层的第二导电层图形,其特征在于,所述栅绝缘层中具有第一过孔,通过一次构图工艺形成所述有源层和第一过孔,所述第二导电层图形通过所述第一过孔与所述第一导电层图形直接电性接触;所述制作方法还包括:在非显示区域形成栅扫描驱动电路的功能膜层,所述功能膜层包括第一信号线,所述第一导电层图形包括第一子导电层图形,所述第二导电层图形包括第二子导电层图形;所述第一子导电层图形和第二子导电层图形的延伸方向相同,并通过所述第一过孔并联,形成所述第一信号线。
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