[发明专利]校准晶片及其制造方法有效

专利信息
申请号: 201610876793.2 申请日: 2016-09-30
公开(公告)号: CN107887317B 公开(公告)日: 2020-10-16
发明(设计)人: 刘源;保罗·邦凡蒂 申请(专利权)人: 上海新昇半导体科技有限公司
主分类号: H01L21/68 分类号: H01L21/68
代理公司: 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 代理人: 余昌昊
地址: 201306 上海*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 在本发明提供了一种校准晶片及其制造方法,所述校准晶片包括校准粒子和衬底晶片,将二氧化铈粒子作为校准粒子,因为二氧化铈的熔点高不易被高能量激光损伤,并且该二氧化铈粒子有11种半径大小;相应的所述衬底晶片被划分成M(M为1~11的自然数)个扫描区,每个扫描区内有2~6组半径大小相同的所述校准粒子。当对半径大小不同的粒子进行校准时,激光束在不同的扫描区内扫描,这样避免了激光束照射在全部的粒子上,对粒子造成损伤。
搜索关键词: 校准 晶片 及其 制造 方法
【主权项】:
一种校准晶片,包括校准粒子和衬底晶片,其特征在于,所述校准粒子是二氧化铈,并且所述校准粒子的半径有11种大小;所述衬底晶片被划分成M个扫描区,分别为第一扫描区、第二扫描区、第三扫描区、......、第M‑1扫描区和第M扫描区,每个扫描区内均有N组半径大小相同的所述校准粒子,M、N为自然数。
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