[发明专利]离子注入装置

摘要

本发明提供一种离子注入装置，增加了二次引出电极结构，该二次引出电极结构包括二次引出电源、位于分析筛选板面向法拉第杯一侧并连接二次引出电源的第一引出电极、及位于法拉第杯远离分析筛选板一侧并连接二次引出电源的第二引出电极，其中，第一、第二引出电极分别连接二次引出电源的正负两电极中不同的一个，从而可在所述第一、第二引出电极之间构成一个具有特定指向方向的平行电场，能够引导经过分析筛选结构的离子束轰击在特定区域，且所述第一引出电极具有对应位于引出缝两侧的平行设置的两电极板，从而可以向穿过分析筛选板的离子束提供一个指向两块电极板中间的力，进而可改善由于真空度变差而导致离子束发散的问题。

主权项

一种离子注入装置，其特征在于，包括离子源系统、引出系统、及设置有法拉第杯(400)的靶室；所述引出系统包括一次引出电极结构(100)、分析筛选结构、及二次引出电极结构(200)；所述一次引出电极结构(100)用于使所述离子源系统产生的离子沿着一定的方向运动而形成离子束，分析筛选结构包括具有引出缝(311)的分析筛选板(310)，离子源系统产生的离子经由所述一次引出电极结构(100)作用而沿着一定的方向进行加速运动后，再通过分析筛选板(310)的引出缝(311)进行筛选后引出；所述法拉第杯(400)位于穿过所述分析筛选板(310)的离子束的运动方向上，用于接受离子束的冲击并且检测所述离子束的属性；所述二次引出电极结构(200)包括二次引出电源(230)、位于所述分析筛选板(310)面向法拉第杯(400)一侧并连接二次引出电源(230)的第一引出电极(210)、及位于所述法拉第杯(400)远离分析筛选板(310)一侧并连接二次引出电源(230)的第二引出电极(220)，其中，第一、第二引出电极(210、220)分别连接二次引出电源(230)的正负两电极中不同的一个，所述二次引出电极结构(200)用于构成一个具有特定指向方向的平行电场，引导经过分析筛选结构的离子束轰击在特定区域；所述第一引出电极(210)包括对应位于所述引出缝(311)两侧的两电极板(211)，所述两电极板(211)为并联连接，具有等电位，在使用时为平行设置，用于对穿过所述分析筛选板(310)的离子束起到收缩作用。