[发明专利]用于确定光斑位置的方法和设备有效

专利信息
申请号: 201610880649.6 申请日: 2016-10-09
公开(公告)号: CN107917665B 公开(公告)日: 2020-02-11
发明(设计)人: 詹焰坤;张振生;施耀明;徐益平 申请(专利权)人: 睿励科学仪器(上海)有限公司
主分类号: G01B11/00 分类号: G01B11/00
代理公司: 11256 北京市金杜律师事务所 代理人: 郑立柱
地址: 201203 上海市*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 为了提高大规模集成电路制造中的光学测量的信噪比,本公开涉及用于确定光斑位置的方法和设备。方法包括:测量针对照射在待测区域上的第一入射光束的第一反射光谱;测量针对照射在待测区域上的第二入射光束的第二反射光谱,其中第一入射光束和第二入射光束的方位角相差180°;以及如果第一反射光谱和第二反射光谱之间的差异小于预定阈值,则确定第一入射光束和第二入射光束在待测区域上的光斑中心处于待测区域的几何中心。本公开还提供用于确定光斑位置的设备。实施例能够快速地对光斑位置进行确定及校正,从而改进测量的信噪比、准确度及适用性。
搜索关键词: 用于 确定 光斑 位置 方法 设备
【主权项】:
1.一种用于确定光斑位置的方法,包括以下步骤:/n测量针对照射在待测区域上的第一入射光束的第一反射光谱;/n测量针对照射在所述待测区域上的第二入射光束的第二反射光谱,其中所述第一入射光束和所述第二入射光束的方位角相差180°;以及/n如果所述第一反射光谱和所述第二反射光谱之间的差异小于预定阈值,则确定所述第一入射光束和所述第二入射光束在所述待测区域上的光斑中心处于所述待测区域的几何中心。/n
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