[发明专利]基于激光刻蚀技术制备微针阵列模板的方法及产物与应用在审
| 申请号： | 201610882818.X | 申请日： | 2016-10-10 |
| 公开（公告）号： | CN106511257A | 公开（公告）日： | 2017-03-22 |
| 发明（设计）人： | 朱锦涛;李朝;柳佩;陶娟;董励芸 | 申请（专利权）人： | 华中科技大学;华中科技大学同济医学院附属协和医院 |
| 主分类号： | A61K9/00 | 分类号： | A61K9/00;A61K47/34;A61K47/36;A61L31/06;A61L31/04;A61L31/14;B23K26/362 |
| 代理公司： | 华中科技大学专利中心42201 | 代理人： | 许恒恒 |
| 地址： | 430074 湖北*** | 国省代码： | 湖北;42 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种基于激光刻蚀技术制备微针阵列模板的方法及产物与应用，其中该制备方法包括以下步骤(1)将PDMS和固化剂固化冷却后得到PDMS基板；(2)设计激光刻蚀掩模板的图样使该图样为同心圆阵列；(3)将PDMS基板放置于激光雕刻机的雕刻区域，并设置激光加工工艺条件参数；接着，参照激光刻蚀掩模板图样对PDMS基板进行激光处理，从而得到经过激光刻蚀的PDMS基板，即微针阵列模板。本发明通过对其关键激光刻蚀的工艺条件进行改进，能够有效解决微针阵列模板制备过程复杂、价格昂贵、结构设计性差以及微针阵列模板大规模生产和应用困难的问题。 | ||
| 搜索关键词： | 基于 激光 刻蚀 技术 制备 阵列 模板 方法 产物 应用 | ||
【主权项】：
一种基于激光刻蚀技术制备微针阵列模板的方法，其特征在于，包括以下步骤：(1)PDMS基板的制备：将PDMS和固化剂按质量比20:1～5:1混合得到混合物，然后将该混合物抽真空至‑0.08MPa的真空度除去所述混合物中的气泡，然后在70～90℃下加热固化1～4h使PDMS固化；冷却后即得到PDMS基板；(2)激光刻蚀掩模板的设计：设计激光刻蚀掩模板的图样使该图样为同心圆阵列；对于所述同心圆阵列，任意一个同心圆中各个圆的直径为50～500μm，相邻同心圆的圆心间距为200～600μm；(3)微针阵列模板的刻蚀：将所述步骤(1)得到的所述PDMS基板放置于激光雕刻机的雕刻区域，并设置激光电流为3～20mA，激光扫描速率为3～20cm/s，激光加工次数为1～10次；接着，参照所述步骤(2)设计得到的激光刻蚀掩模板图样对所述PDMS基板进行激光处理，使得在该PDMS基板上形成根据所述同心圆阵列分布的激光曝光区域，从而得到经过激光刻蚀的PDMS基板，即微针阵列模板。
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