[发明专利]基于SIFT特征点的双标签相对位置信息构建方法在审
申请号: | 201610883528.7 | 申请日: | 2016-10-10 |
公开(公告)号: | CN106485256A | 公开(公告)日: | 2017-03-08 |
发明(设计)人: | 宋育锋 | 申请(专利权)人: | 宋育锋 |
主分类号: | G06K9/46 | 分类号: | G06K9/46;G06K9/62 |
代理公司: | 湖北武汉永嘉专利代理有限公司42102 | 代理人: | 胡建平 |
地址: | 430070 湖北省武*** | 国省代码: | 湖北;42 |
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摘要: | 本发明公开了一种基于SIFT特征点的双标签相对位置信息构建方法,具体为对于商品双标签拍摄形成的图片,根据检测的sift特征点,构建图片中双标签的相对位置关系,把相对位置关系作为图片的标志性特征,用于商品的防伪。本发明方法通过引入SIFT特征点丰富了图片的描述信息,计算量小,鲁棒性好。 | ||
搜索关键词: | 基于 sift 特征 标签 相对 位置 信息 构建 方法 | ||
【主权项】:
一种基于SIFT特征点的双标签相对位置信息构建方法,所述双标签包括上层标签和下层标签;所述上层标签整体边界处在下层标签的边界范围内;所述下层标签的纹理信息为包括丰富的灰度梯度特征信息的用于SIFT特征提取的纹理信息;包括以下步骤:1)选择一个带有双层标签的真实商品,对其双标签拍摄n副不同角度的图片记为Pi,i=1,…,n;选择其中一副作为模板图片,记为P1,其中的上下层标签的相对位移作为参照物;选择另一副作为待测图片,记为P2;对图片P1,P2中上下层标签进行SIFT特征点检测,得到P1,P2上层标签的SIFT特征点集F1,F2;P1,P2下层标签的SIFT特征点集f1,f2;分别获取上下层标签SIFT特征点的物理坐标,存储至少70%的SIFT特征点的坐标信息;2)对P1,P2下层标签进行SIFT特征配准,得到P1和P2中相对应的SIFT配准点集f1’和集f2’,存储f1’和f2’中所有SIFT特征点的位置坐标信息;3)利用f1’和f2’中所有SIFT特征点的位置坐标构造P2到P1的仿射变换矩阵M,将P1和P2的下层标签归一化到同一个物理位置,以削弱不同拍摄角度和商品不同摆放位置带来的影响;4)对P1、P2上层标签进行SIFT特征配准,得到P1和P2中相对应的SIFT配准点集F1’和F2’,存储F1’和F2’中所有SIFT特征点的位置坐标信息;对F2’中SIFT特征点利用仿射矩阵计算仿射变换后的SIFT特征点集F2”;5)计算F2”与F1’中对应SIFT特征点之间的距离d,此距离即反映了P2中上层标签相对下层标签的相对位置信息。
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