[发明专利]一种金属线层小尺寸冗余图形的添加和处理方法有效
| 申请号： | 201610884323.0 | 申请日： | 2016-10-10 |
| 公开（公告）号： | CN106444273B | 公开（公告）日： | 2020-01-10 |
| 发明（设计）人： | 王丹;于世瑞;蒋斌杰;张逸中 | 申请（专利权）人： | 上海华力微电子有限公司 |
| 主分类号： | G03F1/36 | 分类号： | G03F1/36 |
| 代理公司： | 31275 上海天辰知识产权代理事务所(特殊普通合伙) | 代理人： | 吴世华;张磊 |
| 地址： | 201210 上海市浦*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种金属线层小尺寸冗余图形的添加和处理方法，包括根据设计规则将原始版图划分为多个区域，并计算各个区域金属线层的图形密度；将原始版图的所有区域按图形密度高低划分为第一至第三图形密度区域；从各个区域中选择满足添加小尺寸冗余图形条件的金属线；对选出的位于第一至第三图形密度区域的不同金属线，按照图形尺寸由小到大、数量由少到多的方式，添加小尺寸冗余图形；将各小尺寸冗余图形合并到原始版图的金属线层原始主图形中，进行光学邻近效应修正。本发明可真正实现从孤立金属线到密集金属线的转变，达到提高选定部分金属线的光刻工艺窗口和改善选定部分图形密度的目的。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 金属线 尺寸 冗余 图形 添加 处理 方法 | ||
【主权项】：
1.一种金属线层小尺寸冗余图形的添加和处理方法，其特征在于，包括以下步骤：/n步骤S01：提供一原始版图，根据金属线层设计规则将所述原始版图划分为多个区域，并计算各个区域金属线层的图形密度；所述图形密度的计算公式为：(区域内金属线主图形面积+区域内大冗余图形面积)/区域总面积；/n步骤S02：将原始版图的所有区域按图形密度高低划分为第一至第三图形密度区域；/n步骤S03：从各个区域中选择满足添加小尺寸冗余图形条件的金属线，所述金属线同时满足以下条件：金属线属于设计规则定义的小尺寸图形；金属线与接触孔或通孔相连；金属线与金属线之间的距离大于金属线的宽度；金属线与大冗余图形之间的距离符合可制造性设计的要求；/n步骤S04：对选出的位于第一至第三图形密度区域的不同金属线，按照图形尺寸由小到大、数量由少到多的方式，添加小尺寸冗余图形；/n步骤S05：将各小尺寸冗余图形合并到原始版图的金属线层原始主图形中，进行光学邻近效应修正。/n
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G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其专门适用于此的容器；其制备
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