[发明专利]一种改进的印染废水深度处理工艺在审
| 申请号： | 201610884389.X | 申请日： | 2016-10-11 |
| 公开（公告）号： | CN106396260A | 公开（公告）日： | 2017-02-15 |
| 发明（设计）人： | 杨宗政;宁立群;张洁;武莉娅;曹井国;王春虎;吴志国;周颖;张睿轩;常丹青;师育良;韩朝喜 | 申请（专利权）人： | 天津科技大学 |
| 主分类号： | C02F9/14 | 分类号： | C02F9/14 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 300222 天津市*** | 国省代码： | 天津;12 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明公开了一种改进的印染废水深度处理工艺。该工艺为印染废水调节池+水解酸化池+絮凝沉淀池+接触氧化池+MBR池+臭氧反应器+超滤(UF)预处理机组+反渗透系统。本发明中印染废水经混凝沉淀去除部分有机物、悬浮物等，减小生化部分的处理压力、经水解酸化将难降解和大分子污染物处理分解成小分子，以及一定的强化调试，使出水满足膜系统的进水要求，采用超滤(UF)预处理机组、反渗透系统组成双膜工艺，使排放水质不仅达到环保部门的要求，而且可回用于生产的任何阶段。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 改进 印染 废水 深度 处理 工艺 | ||
【主权项】：
一种改进的印染废水深度处理工艺，其特征在于，该工艺为：印染废水调节池+水解酸化池+絮凝沉淀池+接触氧化池+MBR池+臭氧反应器+超滤(UF)预处理机组+反渗透系统。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于天津科技大学，未经天津科技大学许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201610884389.X/，转载请声明来源钻瓜专利网。
