[发明专利]低压化学气相沉淀腔的晶圆支撑结构在审
| 申请号： | 201610885382.X | 申请日： | 2016-10-10 |
| 公开（公告）号： | CN106245111A | 公开（公告）日： | 2016-12-21 |
| 发明（设计）人： | 吕耀安 | 申请（专利权）人： | 无锡宏纳科技有限公司 |
| 主分类号： | C30B25/12 | 分类号： | C30B25/12 |
| 代理公司： | 无锡华源专利商标事务所(普通合伙)32228 | 代理人： | 孙力坚;聂启新 |
| 地址： | 214000 江苏省无锡市新区清源路*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种低压化学气相沉淀腔的晶圆支撑结构，所述支撑结构包括一支撑管，所述支撑管轴向设置于所述环形腔套中，所述支撑管的周壁上借助卡夹夹持晶圆，支撑管中轴承设有内导气管，所述内导气管与所述支撑管之间设有多根导管，所述导管的出气端置于相邻的卡夹之间。本发明的支撑结构，其支撑管采用放射方式固定晶圆，大大降低晶圆的支撑体积，减小整个沉淀腔的体积，并采用内导气结构，提高反应气体与晶圆的接触均匀度。 | ||
| 搜索关键词： | 低压 化学 沉淀 支撑 结构 | ||
【主权项】：
一种低压化学气相沉淀腔的晶圆支撑结构，其特征在于：所述支撑结构(2)包括一支撑管，所述支撑管轴向设置于所述环形腔套中，所述支撑管的周壁上借助卡夹(5)夹持晶圆(6)，支撑管中轴承设有内导气管(7)，所述内导气管(7)与所述支撑管之间设有多根导管(8)，所述导管(8)的出气端置于相邻的卡夹(5)之间。
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