[发明专利]内外喷气式低压化学气相沉淀腔在审
申请号: | 201610885383.4 | 申请日: | 2016-10-10 |
公开(公告)号: | CN106245004A | 公开(公告)日: | 2016-12-21 |
发明(设计)人: | 吕耀安 | 申请(专利权)人: | 无锡宏纳科技有限公司 |
主分类号: | C23C16/455 | 分类号: | C23C16/455;C23C16/458 |
代理公司: | 无锡华源专利商标事务所(普通合伙)32228 | 代理人: | 孙力坚;聂启新 |
地址: | 214000 江苏省无锡市新区清源路*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 本发明涉及一种内外喷气式低压化学气相沉淀腔,包括腔体,所述腔体中内置有导气结构及用于支撑晶圆的支撑结构,所述导气结构为一环形腔套,所述环形腔套的内壁安装有多根径向设置的外导气管,所述支撑结构包括一支撑管,所述支撑管轴向设置于所述环形腔套中,所述支撑管的周壁上借助卡夹夹持晶圆,支撑管中轴承设有内导气管,所述内导气管与所述支撑管之间设有多根导管,所述导管的出气端置于相邻的卡夹之间。本发明采用环状形的导气结构及置于该导气结构中的支撑管,支撑管采用放射方式固定晶圆,大大降低晶圆的支撑体积,减小整个沉淀腔的体积,并采用内外导气结构,提高反应气体与晶圆的接触均匀度。 | ||
搜索关键词: | 内外 喷气式 低压 化学 沉淀 | ||
【主权项】:
一种内外喷气式低压化学气相沉淀腔,包括腔体(1),所述腔体(1)中内置有导气结构(3)及用于支撑晶圆的支撑结构(2),其特征在于:所述导气结构(3)为一环形腔套,所述环形腔套的内壁安装有多根径向设置的外导气管(4),所述支撑结构(2)包括一支撑管,所述支撑管轴向设置于所述环形腔套中,所述支撑管的周壁上借助卡夹(5)夹持晶圆(6),支撑管中轴承设有内导气管(7),所述内导气管(7)与所述支撑管之间设有多根导管(8),所述导管(8)的出气端置于相邻的卡夹(5)之间。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
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