[发明专利]导气支撑一体式低压化学气相沉淀腔

摘要

本发明涉及一种导气支撑一体式低压化学气相沉淀腔，包括腔体，所述腔体中内置有导气结构及用于支撑晶圆的支撑结构，所述导气结构及支撑结构为一体结构，包括一竖直置于腔体中的导气支撑管，所述导气支撑管的管壁上间隔设有多个导气孔，所述导气孔处套设有转套，所述转套上安装有横置的导气管，所述导气管的管壁上均布有出气孔，上下相邻的转套之间的导气支撑管上安装有夹持晶圆的夹头。本发明中，将导气结构及用于支撑晶圆的支撑结构结合一起，简化腔体内部结构，并且合理设置的导气管，大大提高反应气体与晶圆的接触均匀度。

主权项

一种导气支撑一体式低压化学气相沉淀腔，包括腔体(1)，所述腔体(1)中内置有导气结构及用于支撑晶圆的支撑结构，其特征在于：所述导气结构及支撑结构为一体结构，包括一竖直置于腔体(1)中的导气支撑管(2)，所述导气支撑管(2)的管壁上间隔设有多个导气孔，所述导气孔处套设有转套(3)，所述转套(3)上安装有横置的导气管(4)，所述导气管(4)的管壁上均布有出气孔(5)，上下相邻的转套(3)之间的导气支撑管(2)上安装有夹持晶圆(6)的夹头(7)。