[发明专利]光阻管路及光阻涂布设备在审
| 申请号： | 201610885970.3 | 申请日： | 2016-10-10 |
| 公开（公告）号： | CN106252263A | 公开（公告）日： | 2016-12-21 |
| 发明（设计）人： | 凌意明;周孟兴;韩玉龙;王琦 | 申请（专利权）人： | 上海华虹宏力半导体制造有限公司 |
| 主分类号： | H01L21/67 | 分类号： | H01L21/67;H01L21/027 |
| 代理公司： | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙)31237 | 代理人： | 屈蘅 |
| 地址： | 201203 上海市浦东*** | 国省代码： | 上海;31 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明提供一种光阻管路，包括：存储箱、光阻喷嘴和延长管，所述存储箱存储光阻溶液，所述光阻喷嘴的一端连接所述存储箱，所述光阻喷嘴喷出光阻溶液，所述延长管具有相互连接的滞存部和排出部，所述滞存部远离所述排出部的一端连接所述光阻喷嘴，所述滞存部滞存光阻溶液。本发明提供的光阻管路及光阻涂布设备，通过延长管具有的滞存部滞存光阻溶液，为光阻溶液提供一个较为湿润的环境，从而防止光阻溶液在光阻喷嘴产生结晶，降低了由于解决结晶问题而导致的光阻损耗，进而降低了生产成本，提高了生产效率。 | ||
| 搜索关键词： | 管路 光阻涂 布设 | ||
【主权项】：
一种光阻管路，其特征在于，包括：存储箱，所述存储箱存储光阻溶液；光阻喷嘴，所述光阻喷嘴的一端连接所述存储箱，所述光阻喷嘴喷出光阻溶液；延长管，所述延长管具有相互连接的滞存部和排出部，所述滞存部远离所述排出部的一端连接所述光阻喷嘴，所述滞存部滞存光阻溶液。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理；集成电路器件或其特殊部件的制造
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理；集成电路器件或其特殊部件的制造
