[发明专利]表面保护膜及贴合有该表面保护膜的光学部件有效

专利信息
申请号: 201610886407.8 申请日: 2016-10-11
公开(公告)号: CN107083197B 公开(公告)日: 2021-06-15
发明(设计)人: 小林弘幸;春日充;新见洋人;铃木千惠;五十岚智美;木俣绘美子;林益史 申请(专利权)人: 藤森工业株式会社
主分类号: C09J7/40 分类号: C09J7/40;B32B7/04;G02B1/14
代理公司: 北京路浩知识产权代理有限公司 11002 代理人: 谢顺星;张晶
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 发明提供一种对表面具有凹凸的光学用膜也可使用、对被粘物污染少、对被粘物的低污染性不经时变化、具有不经时劣化的优异抗剥离静电性能的表面保护膜及使用其的光学部件。表面保护膜(10),其通过在粘着剂层(2)上贴合具有剥离剂层(4)的剥离膜(5)而成,剥离膜(5)通过在树脂膜(3)的一个面上层叠剥离剂层(4)而成,剥离剂层(4)含有以聚二甲基硅氧烷为主要成分的剥离剂、不与该剥离剂反应的抗静电剂、含至少一个以上醚键的酯类增塑剂,抗静电剂成分为熔点小于30℃的离子性化合物,抗静电剂成分与酯类增塑剂从剥离膜(5)的剥离剂层(4)转印到粘着剂层(2)的表面,降低将粘着剂层(2)从被粘物上剥离时的剥离静电压。
搜索关键词: 表面 保护膜 贴合 光学 部件
【主权项】:
一种表面保护膜,其通过在由具有透明性的树脂所构成的基材膜的一个面上形成粘着剂层,并在该粘着剂层上贴合具有剥离剂层的剥离膜而成,其特征在于,该剥离膜通过在树脂膜的一个面层叠剥离剂层而成,其中,所述剥离剂层含有以聚二甲基硅氧烷为主要成分的剥离剂、不与该剥离剂反应的抗静电剂、及含有至少一个以上醚键的酯类增塑剂,所述抗静电剂成分为熔点小于30℃的离子性化合物,所述抗静电剂成分与所述酯类增塑剂从所述剥离膜的所述剥离剂层转印到所述粘着剂层的表面,降低将所述粘着剂层从被粘物上剥离时的剥离静电压。
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