[发明专利]一种(012)晶面择优取向的Bi1-x有效

专利信息
申请号: 201610890214.X 申请日: 2016-10-12
公开(公告)号: CN106517814B 公开(公告)日: 2020-05-05
发明(设计)人: 谈国强;乐忠威;任慧君;夏傲;杨玮;郑玉娟 申请(专利权)人: 陕西科技大学
主分类号: C03C17/34 分类号: C03C17/34
代理公司: 西安通大专利代理有限责任公司 61200 代理人: 岳培华
地址: 710021 *** 国省代码: 陕西;61
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摘要: 发明提供了一种(012)晶面择优取向的Bi1‑xYbxFe0.98Mn0.02O3铁电薄膜及其制备方法。以硝酸盐和醋酸锰等为原料,乙二醇甲醚和乙酸酐为溶剂制备前驱液,再在FTO基板上采用旋涂和逐层退火工艺制备Bi1‑xYbxFe0.98Mn0.02O3薄膜。制得的薄膜沿(012)晶面择优取向生长,其漏电流密度相比纯BFO薄膜减小了2~3个数量级,显著降低了BFO薄膜的漏电流密度,改善了BFO薄膜的铁电性能。本发明采用溶胶‑凝胶法制备薄膜,设备要求简单,适宜在大的表面和形状不规则的表面上制备薄膜,制备的薄膜均匀性较好,且化学组分精确可控。通过离子掺杂,有效地提高了薄膜的铁电和铁磁性能。
搜索关键词: 一种 012 择优取向 bi base sub
【主权项】:
一种(012)晶面择优取向的Bi1‑xYbxFe0.98Mn0.02O3铁电薄膜,其特征在于:该薄膜的结构式为Bi1‑xYbxFe0.98Mn0.02O3,x=0.06~0.12;该薄膜属于三方结构,空间群为R3c:H,晶胞参数a=b=5.5810,c=13.8757,且该薄膜沿(012)晶面择优取向生长。
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