[发明专利]液晶基板的制作方法

摘要

本发明提供一种液晶基板的制作方法，采用半色调光罩技术在彩色滤光膜上形成有机绝缘平坦层，使得有机绝缘平坦层对应位于所述蓝色像素区上的高度比对应位于所述红色像素区、绿色像素区上的高度高，从而能够在有效改善大尺寸、高解析液晶显示装置的显示Mura，降低寄生电容，提升充电效率的同时，维持液晶显示装置正常的盒厚参数，有效避免显示色差及透过率降低问题，保证液晶显示装置的光学品质。

主权项

1.一种液晶基板的制作方法，其特征在于，包括如下步骤：步骤1、提供一基板(10)，所述基板(10)上设有一层彩色滤光膜(11)，所述彩色滤光膜(11)包括数个红色色阻单元(111)、绿色色阻单元(112)、及蓝色色阻单元(113)，在所述彩色滤光膜(11)上涂布一层光刻胶材料，形成有机涂层(20)；步骤2、提供一半色调光罩(50)，将所述半色调光罩(50)对应置于所述基板(10)上方，在所述基板(10)上划分出分别与所述数个红色、绿色、蓝色色阻单元(111、112、113)相对应的红色像素区、绿色像素区、蓝色像素区、及位于所述蓝色像素区与红色像素区、绿色像素区之间的像素间隔区；所述光罩(50)具有与所述红色、绿色像素区相对应的第一透光区(51)，及与所述蓝色像素区相对应的第二透光区(52)；利用所述半色调光罩(50)对所述有机涂层(20)进行曝光，在所述有机涂层(20)上对应第一、第二透光区(51、52)分别形成第一、第二曝光区，其中，所述第二透光区(52)的透光率高于第一透光区(51)的透光率，从而使得第二曝光区的曝光程度高于第一曝光区的曝光程度；步骤3、提供显影液，利用所述显影液对所述有机涂层(20)进行显影，由于第二曝光区的曝光程度高于第一曝光区的曝光程度，从而所述有机涂层(20)经显影后，所述有机涂层(20)上第二曝光区的高度高于所述第一曝光区的高度；步骤4、对所述有机涂层(20)进行高温烘烤，使所述有机涂层(20)充分固化，形成有机绝缘平坦层；所述步骤2中提供的半色调光罩(50)，在所述第一透光区(51)与第二透光区(52)之间还具有与所述像素间隔区相对应的第三透光区(53)，其中，所述第三透光区(53)的透光率高于第二透光区(52)的透光率，从而所述步骤2中，还包括在所述有机涂层(20)上对应第三透光区(53)形成第三曝光区，所述第三曝光区的曝光程度高于第二曝光区的曝光程度；所述步骤3中，所述有机涂层(20)经显影后，所述有机涂层(20)上第三曝光区的高度高于所述第二曝光区的高度。