[发明专利]湿膜处理装置、系统和方法有效
| 申请号： | 201610891163.2 | 申请日： | 2016-10-13 |
| 公开（公告）号： | CN106654056B | 公开（公告）日： | 2018-08-24 |
| 发明（设计）人： | 王兵;杜勇 | 申请（专利权）人： | 纳晶科技股份有限公司 |
| 主分类号： | H01L51/56 | 分类号： | H01L51/56;H01L51/50;H01L51/00 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 310052 浙江省杭州市滨*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种湿膜处理装置、系统和方法，该湿膜处理装置包括一密封腔体，该密封腔体包括底部和气体接入口，底部设置有至少一个通孔，用于将通入该气体接入口的气体从密封腔体内排出至待处理湿膜表面；该湿膜处理装置还包括一超声发生器，该超声发生器固定地设置于密封腔体内，该超声发生器发出的超声振动经由密封腔体和上述气体传递至待处理湿膜。该湿膜处理装置解决了现有技术制作的发光器件膜层均匀性差的问题，实现了提高湿膜干燥成膜后膜层的均匀性和提高发光器件的发光质量的效果。 | ||
| 搜索关键词： | 处理 装置 系统 方法 | ||
【主权项】：
1.一种湿膜处理装置，其特征在于，包括：一密封腔体(20)，所述密封腔体(20)包括底部(22)和气体接入口(21)，所述底部(22)设置有至少一个通孔(221)，用于将通入所述气体接入口(21)的气体从所述密封腔体(20)内排出至待处理湿膜表面；一超声发生器(40)，所述超声发生器(40)固定地设置于所述密封腔体(20)内，所述超声发生器(40)发出的超声振动经由所述密封腔体(20)和所述气体传递至所述待处理湿膜。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L51-00 使用有机材料作有源部分或使用有机材料与其他材料的组合作有源部分的固态器件；专门适用于制造或处理这些器件或其部件的工艺方法或设备
H01L51-05 .专门适用于整流、放大、振荡或切换且并具有至少一个电位跃变势垒或表面势垒的；具有至少一个电位跃变势垒或表面势垒的电容器或电阻器
H01L51-42 .专门适用于感应红外线辐射、光、较短波长的电磁辐射或微粒辐射；专门适用于将这些辐射能转换为电能，或者适用于通过这样的辐射进行电能的控制
H01L51-50 .专门适用于光发射的，如有机发光二极管
H01L51-52 ..器件的零部件
H01L51-54 .. 材料选择
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L51-00 使用有机材料作有源部分或使用有机材料与其他材料的组合作有源部分的固态器件；专门适用于制造或处理这些器件或其部件的工艺方法或设备
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