[发明专利]一种采用光学显微方式测量沟槽样品深度的方法有效

专利信息
申请号: 201610891200.X 申请日: 2016-10-12
公开(公告)号: CN106441143B 公开(公告)日: 2019-03-08
发明(设计)人: 刘俭;李梦周;李强;谭久彬;谷康 申请(专利权)人: 哈尔滨工业大学
主分类号: G01B11/22 分类号: G01B11/22
代理公司: 哈尔滨市松花江专利商标事务所 23109 代理人: 杨立超
地址: 150001 黑龙*** 国省代码: 黑龙江;23
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摘要: 一种采用光学显微方式测量沟槽样品深度的方法,涉及光学显微测量领域,具体涉及一种沟槽样品深度的方法。本发明为了解决现有的测量沟槽样品深度的方法存在精度较低的问题。本发明首先采用光学显微方式获得沟槽样品的轮廓数据,并确定沟槽样品两侧边缘的位置和沟槽的宽度W;然后在上、下表面轮廓数据部分分别删除上表面避让距离Dd和下表面避让距离Ds;最后,利用沟槽上、下表面剩余的有效数据范围对应的沟槽样品轮廓数据进行拟合,从而得到准确的沟槽深度。本发明适用于光学显微仪器的测量领域。
搜索关键词: 一种 采用 光学 显微 方式 测量 沟槽 样品 深度 方法
【主权项】:
1.一种采用光学显微方式测量沟槽样品深度的方法,其特征在于,包括以下步骤:步骤1、采用光学显微方式获得沟槽样品的轮廓数据;步骤2、针对沟槽样品的轮廓数据,采用最大梯度法确定沟槽样品两侧边缘的位置,并得到沟槽的宽度W;步骤3、针对沟槽上表面轮廓数据部分,在沟槽的两侧边缘各选取一段上表面避让距离Dd;在沟槽两侧上表面轮廓数据中删除两个上表面避让距离Dd对应的数据,将剩余的两段沟槽上表面轮廓数据作为上表面有效数据范围;步骤4、针对沟槽下表面轮廓数据部分,在靠近沟槽两侧边缘的位置上各选取一段下表面避让距离Ds,在沟槽下表面轮廓数据中删除两个下表面避让距离Ds对应的数据,将剩余的一段沟槽下表面轮廓数据作为下表面有效数据范围;所述下表面避让距离Ds如下:其中,H为沟槽样品深度的估计值;K为反映实际光学系统聚焦特性与理论情况差异的工艺因子,λ为照明光的波长,NA为所用物镜的数值孔径;步骤5、利用沟槽上表面的两段有效数据范围和沟槽下表面的一段有效数据范围对应的沟槽样品轮廓数据,进行拟合,从而得到准确的沟槽深度;所述的得到准确的沟槽深度的具体过程包括以下步骤:利用沟槽上表面的两段有效数据范围对应的轮廓数据拟合出沟槽上表面的数值;利用沟槽下表面的一段有效数据范围对应的轮廓数据拟合出沟槽下表面的数值;将沟槽上表面的数值减去沟槽下表面的数值,得到准确的沟槽深度。
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