[发明专利]迭片多层厚膜电路的联接工艺有效
申请号: | 201610893340.0 | 申请日: | 2016-10-13 |
公开(公告)号: | CN106252272B | 公开(公告)日: | 2019-01-15 |
发明(设计)人: | 郑锦清;任春祥 | 申请(专利权)人: | 珠海市华晶微电子有限公司 |
主分类号: | H01L21/70 | 分类号: | H01L21/70;H01L21/60;H01L21/56 |
代理公司: | 北京科亿知识产权代理事务所(普通合伙) 11350 | 代理人: | 赵蕊红 |
地址: | 519015 广东省珠海市南山*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | 一种迭片多层厚膜电路的联接工艺及其制备方法,联接过程是:将待联接的厚膜电路膜片的表面印刷S保护釉料;然后在厚膜电路膜片的共对应点上各印刷多个E料块联接;最后将厚膜电路膜片的待联接面迭合在一起并置于匣钵模,于480—520℃烧结20—30分钟。或者联接过程是:在需要电联接的厚膜电路膜片上印刷低温银浆F;再对厚膜电路膜片的表面印刷S保护釉料;然后在厚膜电路膜片的共对应点上各印刷多个E料块联接,最后将厚膜电路膜片的待联接面迭合在一起并置于匣模,并于480—520℃烧结20—30分钟。本发明制备工艺简单、成品率高。 | ||
搜索关键词: | 多层 电路 联接 工艺 | ||
【主权项】:
1.一种迭片多层厚膜电路的联接工艺,其特征在于,对已经完成多层布线、孔金属化,并完成厚膜元件制作和调整的厚膜电路膜片进行联接;具体联接过程是:在各个厚膜电路膜片的待联接的表面分别印刷S保护釉料;然后在厚膜电路膜片之间的共对应点上各印刷多个E料块联接;最后将各厚膜电路膜片的待联接面迭合在一起并置于匣钵模,于480—520℃烧结20—30分钟;按照重量份计,所述S保护釉料含有如下份数的原料:A:50‑85;B:10‑50;C:30‑50;S保护釉料的制备工艺,包括:按照组成称量组分,并分别置于搅拌式球磨罐中,按料:球=1:2的比例球磨20‑30分钟,取出盛装得到S保护釉料;其中,A为无铅易熔绿色环保玻璃,按照重量百分比计,含有如下份数的原料:SiO2:40‑60;TiO2:0‑20;ZnO:4‑10;KF:5‑30;脱水硼砂:8‑15;A的制备工艺包括如下步骤:(a1)将原料于110‑120℃下烘干40‑70分钟;(a2)将原材料置于搅拌罐内搅拌混合2‑3分钟,然后取出装入容置匣钵或者坩埚或者直接导入熔制炉膛;(a3)以320‑360℃/小时的升温速度升温至1020‑1120℃,保温35‑45分钟,使玻璃处于低粘度充分混合熔融状态,再取出或开阀使玻璃液冷却或注入水中淬火呈玻璃颗粒;(a4)把冷却的玻璃块或玻璃颗粒置于破碎机粉碎制成粒度不大于3微米的玻璃粉A;其中,按照重量份计,B含有如下份数的原料:ZnO:25‑35;Cr2O3:0‑3;CuO:0‑4;MnO2:0‑3;NiO:0‑3;Co2O3:0‑3;BaCO3:4‑6;Al2O3:0‑10;脱水硼砂:35‑40;B的制备工艺包括如下步骤:将原料置于搅拌式球磨机罐中,按料:锆球:水=1:2:1.2的比例搅拌球磨2.5‑3.5小时至粒度不大于3微米,取出烘干过筛得到B组份;其中,按照重量份计,C含有如下份数的原料:甲基纤维素:6‑10;丙三醇:2‑2.5;水:90‑100;C的制备工艺是:按照配比将原料放于容器中,经100℃水浴,并在玻璃棒搅拌下制成胶水;按照重量份计,E含有如下份数的原料:D:60‑100;C:35‑45;其中,按照重量份计,D含有如下份数的原料:A:65‑85;ZnO:2‑4;KF:0‑8;BaO:0‑3;脱水硼砂:3‑6;D的制备工艺是:按照配比将原料放于球磨罐中,按料:锆球:水=1:2:1.2的比例搅拌球磨3.5‑4.5小时至粒度不大于3微米,取出烘干过筛得到D组份。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
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H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
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