[发明专利]大口径光学元件表面划痕暗场图像的二值化方法和系统

摘要

本发明涉及一种大口径光学元件表面划痕暗场图像的二值化方法和系统。其中，该方法可以包括：基于暗场图像，利用Gabor滤波器，构建线段探测单元；其中，线段探测单元包括Lc、L_l和Lr，Lc表示图像中待检测像素点的灰度值之和；L_l表示与待检测像素点左侧相距w_u大小的灰度值之和；Lr表示与待检测像素点右侧相距w_u大小的灰度值之和；w_u表示线段探测单元的宽度；根据下式对待检测像素点进行二值化：I(u,v)>T₁，Lc>L_l+T₂且Lc>Lr+T₂；I(u,v)表示大口径光学元件表面划痕暗场图像中像素点(u,v)的灰度值；u表示像素点的横坐标；v表示像素点的纵坐标；T₁表示第一阈值；T₂表示第二阈值。通过采用该技术方案，解决了如何准确实现大口径光学元件表面划痕暗场图像的二值化提取的技术问题。

主权项

1.一种大口径光学元件表面划痕暗场图像的二值化方法，其特征在，所述方法包括：基于所述大口径光学元件表面划痕暗场图像，利用Gabor滤波器，构建线段探测单元；其中，所述线段探测单元包括Lc、Ll和Lr，其中，所述Lc表示所述图像中待检测像素点的灰度值之和；所述Ll表示与所述待检测像素点左侧相距wu大小的灰度值之和；所述Lr表示与所述待检测像素点右侧相距wu大小的灰度值之和；所述wu表示所述线段探测单元的宽度；根据下式对所述待检测像素点进行二值化：I(u,v)>T1，Lc>Ll+T2且Lc>Lr+T2；其中，所述I(u,v)表示所述大口径光学元件表面划痕暗场图像中像素点(u,v)的灰度值；所述u表示所述像素点的横坐标；所述v表示所述像素点的纵坐标；所述T1表示第一阈值；所述T2表示第二阈值。