[发明专利]样本分析系统和装置、清洗液制备装置及清洗液供应方法

摘要

本发明提供一种能够使新制备的清洗液占存放的清洗液的大部分并能用存放的清洗液迅速清洗样本分析装置的样本分析系统、清洗液制备装置、样本分析装置以及清洗液供应方法。样本分析系统100包括清洗液制备装置4和样本分析装置1。样本分析装置1包括测定部件2和用于存放清洗液的存放部件20，且其用清洗液清洗测定部件2的至少一部分。清洗液制备装置4能够选择性地执行第一补给模式和第二补给模式，其中，第一补给模式是当存放部件20中的液量变为第一量时向存放部件20补给清洗液的模式，第二补给模式是当存放部件20中的液量变为比第一量少的第二量时向存放部件20补给清洗液的模式。

主权项

一种样本分析系统，包括：清洗液制备装置，用于制备清洗液，以及样本分析装置，包括用于测定样本的测定部件以及用于存放所述清洗液制备装置制备的所述清洗液的存放部件，并用所述清洗液清洗所述测定部件的至少一部分；其中，所述清洗液制备装置能够选择性地执行第一补给模式和第二补给模式，所述第一补给模式是当所述存放部件中的液量变为第一量时向所述存放部件补给所述清洗液的模式，所述第二补给模式是当所述存放部件中的液量变为比所述第一量少的第二量时向所述存放部件补给所述清洗液的模式。