[发明专利]双闭环磁控溅射阴极在审
| 申请号： | 201610897530.X | 申请日： | 2016-10-15 |
| 公开（公告）号： | CN106435501A | 公开（公告）日： | 2017-02-22 |
| 发明（设计）人： | 彭寿;吴以军;刘小雨;王宝玉 | 申请（专利权）人： | 凯盛光伏材料有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35 |
| 代理公司： | 安徽省蚌埠博源专利商标事务所34113 | 代理人： | 杨晋弘 |
| 地址： | 233010 安徽*** | 国省代码： | 安徽;34 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明公开双闭环磁控溅射阴极，包括相互平行设置的靶材与磁靴，以及设于靶材与磁靴之间的磁体装置，磁体装置包含一个中间磁体、两个端部磁体以及两组辅助磁体对，每组辅助磁体对都由两个相吸附的辅助磁体构成，两个辅助磁体的磁极方向相反；所述中间磁体位于磁靴中央，两个端部磁体分别位于磁靴的两端，两组辅助磁体对分别位于中间磁体与端部磁体之间的磁靴上；每个磁体两个磁极的连线均垂直于靶材；所有相邻磁体之间的磁极方向均相反；通过增加辅助磁体对，使靶材表面增加了两对双闭环的磁场，从而使磁场强度分布更加均匀，靶材表面的刻蚀区宽度更宽，同时还可以利用导磁片调节靶材表面平行磁场分量的大小，从而有效提高了靶材的利用率。 | ||
| 搜索关键词： | 闭环 磁控溅射 阴极 | ||
【主权项】：
双闭环磁控溅射阴极，包括相互平行设置的靶材与磁靴，以及设于靶材与磁靴之间的磁体装置，其特征在于，所述磁体装置包含一个中间磁体、两个端部磁体以及两组辅助磁体对，每组辅助磁体对都由两个相吸附的辅助磁体构成，两个辅助磁体的磁极方向相反；所述中间磁体位于磁靴中央，两个端部磁体分别位于磁靴的两端，两组辅助磁体对分别位于中间磁体与端部磁体之间的磁靴上；每个磁体两个磁极的连线均垂直于靶材；所有相邻磁体之间的磁极方向均相反。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于凯盛光伏材料有限公司，未经凯盛光伏材料有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201610897530.X/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：一种用于平面圆形磁控溅射阴极靶的磁场源
- 下一篇：一种沉积透明导电薄膜的方法
- 同类专利
- 专利分类
