[发明专利]一种适用于3D打印的光敏材料及其制备工艺在审
| 申请号： | 201610898411.6 | 申请日： | 2016-10-14 |
| 公开（公告）号： | CN106496560A | 公开（公告）日： | 2017-03-15 |
| 发明（设计）人： | 陈海燕;邵永奇 | 申请（专利权）人： | 德施普科技发展温州有限公司 |
| 主分类号： | C08G77/04 | 分类号： | C08G77/04;C08G77/24 |
| 代理公司： | 北京富天文博兴知识产权代理事务所(普通合伙)11272 | 代理人： | 刘寿椿 |
| 地址： | 325000 浙江省温州市瓯海区东*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种适用于3D打印的光敏材料及其制备工艺，光敏材料由烷基氯硅烷、烷基硅氧烷、交联剂、催化剂组成；制备工艺真空条件下，将烷基氯硅烷和烷基硅氧烷溶解于有机溶剂中，搅拌处理30min～60min，得到均质溶液；将交联剂加入到均质溶液中，反应20min～50min，使交联剂完全溶解，然后加入催化剂，得到前驱物溶液；将前驱物溶液保温4h～6h，经减压蒸发，所得粉体即为适用于3D打印的光敏材料。本发明以不同硅烷体系为主体的3D打印光敏材料，制备得到的3D打印材料具有良好的环境适应能力和良好应用潜力。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 适用于 打印 光敏 材料 及其 制备 工艺 | ||
【主权项】：
一种适用于3D打印的光敏材料，其特征在于，所述光敏材料由以下质量百分数的原料组成：烷基氯硅烷35％～45％，烷基硅氧烷40％～50％，交联剂5％～15％，催化剂2％～5％；其中，所述烷基氯硅烷的结构通式为：(R)nSi(Cl)m，其中R表示饱和脂肪族烷基、苯基中的任一种或几种，n和m分别为1～3的整数，并且n+m＝4；所述烷基硅氧烷的结构通式为：[(R)xSiO]y，其中R表示饱和脂肪族烷基，x为1～3的整数，并且y为不小于2的整数。
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