[发明专利]光阻膜厚测量方法及光阻膜厚测量装置

摘要

本发明提供一种光阻膜厚测量方法及光阻膜厚测量装置。所述方法包括将光阻膜厚测量装置的探针放置于彩膜基板的非显示区，并自非显示区向显示区移动，以彩膜基板中的基板为基准面测出显示区中的黑矩阵相较于基板的厚度为原始厚度；将探针按照第一、第二及第三颜色光阻的涂布方向滑过显示区的各个颜色光阻，以测出第一、第二及第三颜色光阻分别以黑矩阵为基准面的厚度为第一厚度、第二厚度及第三厚度；识别探针滑过的第一、第二及第三颜色光阻的颜色；将原始厚度加上第一厚度得出第一颜色光阻以基板为基准面的厚度，将原始厚度加上第二厚度得出第二颜色光阻以基板为基准面的厚度，将原始厚度加上第三厚度得出第三颜色光阻以基板为基准面的厚度。

主权项

一种光阻膜厚测量方法，其特征在于，所述光阻膜厚测量方法包括：第一测量步骤：将光阻膜厚测量装置的探针放置于彩膜基板的非显示区，并自所述非显示区向彩膜基板的显示区移动，以彩膜基板中的基板为基准面测出所述显示区中的黑矩阵相较于基板的厚度为原始厚度，其中，所述非显示区与所述显示区之间设置黑矩阵；第二测量步骤：将所述探针按照第一颜色光阻、第二颜色光阻及第三颜色光阻的涂布方向滑过所述显示区的各个颜色光阻，以所述显示区中的黑矩阵为基准面测量出第一颜色光阻、第二颜色光阻及第三颜色光阻分别相较于所述黑矩阵的厚度，所述第一颜色光阻以所述黑矩阵为基准面的厚度为第一厚度，所述第二颜色光阻以所述黑矩阵为基准面的厚度为第二厚度、所述第三颜色光阻以所述黑矩阵为基准面的厚度为第三厚度，其中，所述第一颜色光阻、所述第二颜色光阻及所述第三颜色光阻分别为红色光阻、绿色光阻及蓝色光阻的任意组合，且所述第一颜色光阻、所述第二颜色光阻及所述第三颜色光阻的颜色各不相同；颜色识别步骤：识别所述探针滑过的第一颜色光阻、第二颜色光阻及第三颜色光阻的颜色；及计算步骤：将所述原始厚度加上所述第一厚度得出所述第一颜色光阻以所述基板为基准面的厚度，将所述原始厚度加上所述第二厚度得出所述第二颜色光阻以所述基板为基准面的厚度，将所述原始厚度加上所述第三厚度得出所述第三颜色光阻以所述基板为基准面的厚度。