[发明专利]一种掩膜版固定系统在审

专利信息
申请号: 201610901000.8 申请日: 2016-10-17
公开(公告)号: CN106444294A 公开(公告)日: 2017-02-22
发明(设计)人: 祖延雷;于世瑞;陈权 申请(专利权)人: 上海华力集成电路制造有限公司
主分类号: G03F7/20 分类号: G03F7/20
代理公司: 上海天辰知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 31275 代理人: 吴世华;陈慧弘
地址: 201315 上海市自由贸*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明提供了一种掩膜版固定系统,具有固定组件和运动组件,运动组件安装于固定组件上,并且可以沿着固定组件的导向方向进行移动;运动组件还具有两两相对设置的机械手,相对的两个机械手用于固定掩膜版相对的边缘。本发明可以控制掩模版部分区的形变,提高晶圆上层间套刻精度,最终提高产品良率。与现有的方法相比,不需要为每个产品建立数据库进行仿真,通用性强,成本低。
搜索关键词: 一种 掩膜版 固定 系统
【主权项】:
1.一种掩膜版固定系统,具有固定组件和运动组件,运动组件安装于固定组件上,并且可以沿着固定组件的导向方向进行移动;其特征在于,所述运动组件还具有两两相对设置的机械手,相对的两个机械手用于固定掩膜版相对的边缘;所述系统还具有控制器、探测器和计算器,探测器用于探测机械手当前位置数据,计算器根据当前位置数据来计算机械手的位移方向和位移量,从而使机械手对准所要固定的掩膜版位置,控制器根据计算器所计算的位移方向和位移量来控制机械手做出相应的运动并且固定掩膜版;当掩膜版固定于机械手上时,所述计算器还计算机械手从掩膜版的边缘向外的位移方向和微位移量,控制器根据从掩膜版的边缘向外的位移方向和微位移量控制机械手从掩膜版的边缘向外做出相应的运动,从而向掩膜版施加均匀的微拉力引导释放掩膜版的形变。
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