[发明专利]一种光干涉气体浓度传感器系统

摘要

本发明公开了一种光干涉气体浓度传感器系统，包括参考气室、采样气室、第一光源、第二光源、平面镜、第一折光棱镜、第二折光棱镜。参考气室和采样气室各有一个矩形气室和一个梯形气室。第一光源或者第二光源分时发光，分别经过矩形气室和梯形气室进行全量程高精度测量，光源发出的光线经聚光镜会聚后以45°角入射到背面镀有全反射膜的平面镜，平面镜将光线分成平行的两束光，两束光穿过采样气室和参考气室，然后分别经折光棱镜反射后同时穿过矩形参考气室，最后光线穿过补偿棱镜后到达平面镜重新汇合成一束光，在光电探测元件处产生干涉条纹。根据光电探测元件的光强，测得待测气体浓度。

主权项

1.一种光干涉气体浓度传感器系统，其特征在于，包括矩形参考气室、梯形参考气室、矩形采样气室、梯形采样气室、第一光源、第二光源、聚光镜、背面镀有全反射膜的平面镜、第一折光棱镜、第二折光棱镜，其中，梯形参考气室和矩形参考气室中充有参考气体，而梯形采样气室和矩形采样气室中充有待测气体；所述梯形参考气室和矩形参考气室互通，矩形采样气室和梯形采样气室互通；梯形参考气室和梯形采样气室水平并排排列，且梯形斜边重合；矩形参考气室位于梯形参考气室和梯形采样气室下方，矩形采样气室位于矩形参考气室下方，矩形参考气室和矩形采样气室竖直并排排列；所述第一光源发出的光经过背面镀有全反射膜的平面镜反射后，分成平行的两束光，并分别水平入射至梯形参考气室和梯形采样气室；经过梯形参考气室和梯形采样气室的两束光经过第一折光棱镜反射后，再经过第二折光棱镜后水平入射至矩形参考气室；经过矩形参考气室的两束光水平入射至所述背面镀有全反射膜的平面镜反射后，两束光合并成一束光后，在光电探测元件处产生第一干涉条纹；所述第二光源发出的光经过背面镀有全反射膜的平面镜反射后，分成平行的两束光，并分别水平入射至矩形参考气室和矩形采样气室；经过矩形参考气室和矩形采样气室的两束光经过第二折光棱镜反射后，水平入射至矩形参考气室；经过矩形参考气室的两束光水平入射至所述背面镀有全反射膜的平面镜反射后，两束光合并成一束光后，在光电探测元件处产生第二干涉条纹；所述光电探测元件分别探测第一干涉条纹和第二干涉条纹，以根据第一干涉条纹和第二干涉条纹获得待测气体的浓度。