[发明专利]一种基于天线方向图修正计算目标RCS的方法有效

专利信息
申请号: 201610903006.9 申请日: 2016-10-17
公开(公告)号: CN106526562B 公开(公告)日: 2019-01-11
发明(设计)人: 胡楚锋;徐志浩;陈卫军;张麟兮 申请(专利权)人: 西北工业大学
主分类号: G01S7/41 分类号: G01S7/41
代理公司: 西北工业大学专利中心 61204 代理人: 常威威
地址: 710072 *** 国省代码: 陕西;61
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摘要: 发明提供了一种基于天线方向图修正计算目标RCS的方法,以基于成像的近远场变换方法为基础,借用微波成像的思想,建立起目标的二维像与近场回波、目标散射特性的关系,无需在处理过程中成像,能够实现近场数据的准确外推。由于在计算单站近场回波回波散射时考虑了天线方向图的影响,因而对目标近场数据的表述更为准确;使用近似天线方向图函数代替真实天线方向图函数,且在外推过程中对天线方向图的影响给予修正,简化了构建方向图函数的复杂度,并减小了计算目标RCS的误差。
搜索关键词: 天线方向图 近场 计算目标 回波 修正 成像 方向图函数 散射特性 微波成像 复杂度 散射 二维 构建 减小 远场 近似 借用
【主权项】:
1.一种基于天线方向图修正计算目标RCS的方法,其特征在于步骤如下:步骤一:确定近似的天线方向图:在天线照射目标角域内,利用三角函数10A·((B*cos(Cψ)‑B)/10)对测试天线的方向图函数进行近似,通过改变A、B、C的值得到近似的天线方向图函数A(ψ),满足近似误差小于0.5dB;其中,ψ为天线到目标上任意一点与天线最大辐射方向的夹角;步骤二:构建预处理数据:首先,在微波暗室中对目标进行单站转台测量,并考虑天线方向图影响,得到目标的单站近场回波散射为:其中,为以转台中心为原点的极坐标系下天线的转角,k为波数,按k=2πf/c计算,f为天线的测试频率,c为光速,为目标区域的二维像,为目标上任意一点的极坐标,ρ′表示这个点到转台中心的距离,表示这个点在极坐标系下的角度,为天线到点的距离,ρ0为天线到转台中心的距离;然后,按下式构建目标的预处理数据为:其中,表示成像距离,Δf是转台测量的步进频率;步骤三:计算单站远场散射方向图:根据目标的预处理数据,按下式计算目标的单站远场散射方向图为:其中,N≥2kaant+10,为目标单站模式下的截取范围,aant为柱坐标下包围目标的最小半径,Pn(2kρ0)为天线的响应恒量,按计算,M≥2kaant为第一类n+m阶汉克尔函数,T是近似天线方向图函数A(ψ)的周期;步骤四:计算定标体的单站远场散射方向图:以定标体为目标,重复步骤二和三,计算得到定标体的单站远场散射方向图步骤五:计算目标的RCS:根据目标和定标体的单站远场散射方向图,由下式定标计算得到目标的RCS:其中,σ为目标的RCS,σ0为定标体的RCS。
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