[发明专利]一种高硬度杀菌PVD膜的制备方法有效
申请号: | 201610904863.0 | 申请日: | 2016-10-18 |
公开(公告)号: | CN106555162B | 公开(公告)日: | 2019-01-15 |
发明(设计)人: | 麦福枝;麦世枝 | 申请(专利权)人: | 麦福枝;麦世枝 |
主分类号: | C23C14/34 | 分类号: | C23C14/34;C23C14/14 |
代理公司: | 北京科亿知识产权代理事务所(普通合伙) 11350 | 代理人: | 肖平安 |
地址: | 中国香港*** | 国省代码: | 中国香港;81 |
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摘要: | 本发明为一种高硬度防菌PVD膜的制备方法,使用W‑Ti合金靶材在工件上沉积第一层杀菌膜,W的硬度强,并且也有极强的杀菌能力,Ti和W的结合利于杀菌膜沉积时候的附着力,能够提高PVD膜的性能,在W‑Ti杀菌膜上沉积第二层杀菌膜为W‑Ti‑Ag,在第二层杀菌膜中加入纳米银,可以增强杀菌膜的杀菌效果,同时W的高硬度能够保护纳米银;因为W本身具有杀菌能力,因此只需在杀菌膜的最外层加入少许纳米银,而W的市场价格比纳米银便宜,因此以上技术方案中的杀菌膜可以降低杀菌膜生产成本。 | ||
搜索关键词: | 一种 硬度 杀菌 pvd 制备 方法 | ||
【主权项】:
1.一种高硬度PVD杀菌膜的制备方法,其特征在于包括如下步骤:1)工件预处理:将工件表面油污洗净并脱去工件表面氧化膜,随后将工件放入真空炉中;2)工件清洗:真空炉中抽真空,升温至120~150℃,充入Ar,启动Ti弧靶,对工件进行离子清洗;3)基础膜:关闭Ti弧靶,启动Ti溅射靶,继续充入Ar,加载‑70~‑90V偏压,在工件表面沉积钛膜基础膜;4)第一层杀菌膜:关闭Ti溅射靶,启动W‑Ti合金弧靶,充入Ar,加载‑70~‑90V偏压,钛膜上沉积第一层杀菌膜;5)第二层杀菌膜:持续启动W‑Ti合金弧靶,同时启动纳米银溅射靶,持续时间3~5分钟,沉积第二层杀菌膜。
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