[发明专利]一种真空灭弧室触头结构在审
| 申请号： | 201610907133.6 | 申请日： | 2016-10-17 |
| 公开（公告）号： | CN106653467A | 公开（公告）日： | 2017-05-10 |
| 发明（设计）人： | 王清华;周倜 | 申请（专利权）人： | 湖北大禹汉光真空电器有限公司 |
| 主分类号： | H01H33/664 | 分类号： | H01H33/664 |
| 代理公司： | 武汉河山金堂专利事务所(普通合伙)42212 | 代理人： | 胡清堂 |
| 地址： | 432000 *** | 国省代码： | 湖北;42 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种真空灭弧室触头结构，包括静触头和动触头，所述动触头相对所述静触头一侧形成有球形凸面，所述静触头相对所述动触头一侧形成一与所述球形凸面相配合的球形凹面；其中，所述球形凸面上设置有多个外凹槽，所述球形凹面上设置有多个内凹槽。本发明一方面将动触头和静触头分别设置为球形凸面和球形凹面，其增加了动触头和静触头的接触面积和燃弧面积，其有利于提高电弧的扩散；另一方面在球形凸面和球形凹面上分别设置外凹槽和内凹槽，其进一步的增加了燃弧面积。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 真空 灭弧室触头 结构 | ||
【主权项】：
一种真空灭弧室触头结构，其特征在于，包括静触头和动触头，所述动触头相对所述静触头一侧形成有球形凸面，所述静触头相对所述动触头一侧形成一与所述球形凸面相配合的球形凹面；其中，所述球形凸面上设置有多个外凹槽，所述球形凹面上设置有多个内凹槽。
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