[发明专利]彩膜基板及其制备方法和显示装置有效
| 申请号： | 201610916478.8 | 申请日： | 2016-10-20 |
| 公开（公告）号： | CN106569361B | 公开（公告）日： | 2019-08-16 |
| 发明（设计）人： | 韩自力;吴洪江;庞家齐;查长军;熊强;黎敏 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司;重庆京东方光电科技有限公司 |
| 主分类号： | G02F1/1335 | 分类号： | G02F1/1335;G02F1/1333;G02F1/1339 |
| 代理公司： | 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 | 代理人： | 罗瑞芝;陈源 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明属于显示技术领域，具体涉及一种彩膜基板、阵列基板的制备方法和显示装置。该彩膜基板，划分为多个像素区，相邻所述像素区之间的间隙设置有黑矩阵，所述像素区设置有彩色滤光层，所述彩色滤光层与所述黑矩阵至少部分交叠，所述彩色滤光层的上方设置有高度补偿部，所述高度补偿部的底部形状与所述彩色滤光层的上表面形状相适，所述高度补偿部的顶部为平面，所述高度补偿部的上表面高度不高于所述彩色滤光层的最大高度。该彩膜基板通过高度补偿部，能有效补偿因彩色滤光层下陷造成的段差；而且，该高度补偿部在制作柱状隔垫物的图案时同时形成，不需增加额外的构图工艺。 | ||
| 搜索关键词： | 彩色滤光层 高度补偿 彩膜基板 像素区 显示装置 黑矩阵 制备 上表面形状 柱状隔垫物 底部形状 构图工艺 间隙设置 有效补偿 阵列基板 上表面 下陷 段差 交叠 图案 制作 | ||
【主权项】：
1.一种彩膜基板，划分为多个像素区，相邻所述像素区之间的间隙设置有黑矩阵，所述像素区设置有彩色滤光层，所述彩色滤光层与所述黑矩阵至少部分交叠，其特征在于，所述彩色滤光层的上方设置有高度补偿部，所述高度补偿部的底部形状与所述彩色滤光层的上表面形状相适，所述高度补偿部的顶部为平面，所述高度补偿部的上表面高度不高于所述彩色滤光层的最大高度。
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