[发明专利]立式热处理装置有效

专利信息
申请号: 201610917830.X 申请日: 2016-10-20
公开(公告)号: CN107017181B 公开(公告)日: 2021-02-12
发明(设计)人: 入宇田启树;福岛讲平 申请(专利权)人: 东京毅力科创株式会社
主分类号: H01L21/67 分类号: H01L21/67
代理公司: 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 代理人: 刘新宇;张会华
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 发明提供一种立式热处理装置,该立式热处理装置包括:基板保持器具,其具有:支柱;基板保持部,其沿着所述支柱设有多个,用于分别保持基板;气流引导部,其针对每个基板设于所述支柱,以其周缘部向比基板靠外侧的位置伸出的方式形成;升降台,其用于支承所述基板保持器具而将所述基板保持器具从所述反应容器的下方输入所述反应容器;旋转机构,其设于所述升降台,用于使所述基板保持器具绕纵轴旋转;处理气体供给口和排气口,其分别设于保持有所述多个基板的基板保持区域的后方侧和前方侧;整流部,其以在所述基板保持区域的左右从外侧朝向彼此相邻的气流引导部之间的空间突出而面对该空间的方式相对于所述基板保持器具独立地设置。
搜索关键词: 立式 热处理 装置
【主权项】:
一种立式热处理装置,在由加热部包围的立式的反应容器内形成从一侧朝向另一侧横向流动的处理气体的气流而对呈搁板状配置的多个基板进行处理,其中,该立式热处理装置包括:基板保持器具,其具有:支柱;基板保持部,其沿着所述支柱设有多个,用于分别保持基板;气流引导部,其针对每个基板设于所述支柱,以其周缘部向比基板靠外侧的位置伸出的方式形成;升降台,其用于支承所述基板保持器具而将所述基板保持器具从所述反应容器的下方输入所述反应容器;旋转机构,其设于所述升降台,用于使所述基板保持器具绕纵轴旋转;处理气体供给口和排气口,其分别设于保持有所述多个基板的基板保持区域的后方侧和前方侧;整流部,其以在所述基板保持区域的左右从外侧朝向彼此相邻的气流引导部之间的空间突出而面对该空间的方式相对于所述基板保持器具独立地设置。
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